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  • Pesquisa sobre forno epitaxial de SiC de 8 polegadas e processo homoepitaxial-Ⅰ

    Pesquisa sobre forno epitaxial de SiC de 8 polegadas e processo homoepitaxial-Ⅰ

    Atualmente, a indústria de SiC está passando por uma transição de 150 mm (6 polegadas) para 200 mm (8 polegadas). Para atender à demanda urgente por wafers homoepitaxiais de SiC de alta qualidade e grande porte na indústria, wafers homoepitaxiais de 4H-SiC de 150 mm e 200 mm foram preparados com sucesso em...
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  • Otimização da estrutura porosa do carbono - II

    Otimização da estrutura porosa do carbono - II

    Bem-vindo ao nosso site para informações e consultoria sobre produtos. Nosso site: https://www.vet-china.com/ Método de ativação física e química O método de ativação física e química refere-se ao método de preparação de materiais porosos combinando as duas atividades mencionadas acima...
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  • Otimização da estrutura porosa do carbono - I

    Otimização da estrutura porosa do carbono - I

    Bem-vindo ao nosso site para informações e consultoria sobre produtos. Nosso site: https://www.vet-china.com/ Este artigo analisa o mercado atual de carvão ativado, realiza uma análise aprofundada das matérias-primas do carvão ativado e apresenta a estrutura dos poros...
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  • Fluxograma do processo de semicondutores - II

    Fluxograma do processo de semicondutores - II

    Bem-vindo ao nosso site para informações e consultoria sobre produtos. Nosso site: https://www.vet-china.com/ Gravação de Poli e SiO2: Após esta etapa, o excesso de Poli e SiO2 é removido por gravação. Neste momento, utiliza-se gravação direcional. Na classificação...
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  • Fluxograma do processo de semicondutores

    Fluxograma do processo de semicondutores

    Você consegue entender mesmo sem nunca ter estudado física ou matemática, mas é um pouco simples demais e adequado para iniciantes. Se quiser saber mais sobre CMOS, precisa ler o conteúdo desta edição, pois só depois de entender o fluxo do processo (ou seja...)
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  • Fontes de contaminação e limpeza de wafers semicondutores

    Fontes de contaminação e limpeza de wafers semicondutores

    Algumas substâncias orgânicas e inorgânicas são necessárias para a fabricação de semicondutores. Além disso, como o processo é sempre realizado em uma sala limpa com a participação de humanos, os wafers de semicondutores são inevitavelmente contaminados por diversas impurezas.
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  • Fontes de poluição e prevenção na indústria de fabricação de semicondutores

    Fontes de poluição e prevenção na indústria de fabricação de semicondutores

    A produção de dispositivos semicondutores inclui principalmente dispositivos discretos, circuitos integrados e seus processos de encapsulamento. A produção de semicondutores pode ser dividida em três etapas: produção do material do corpo do produto, fabricação do wafer do produto e montagem do dispositivo. Entre elas,...
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  • Por que é necessário o desbaste?

    Por que é necessário o desbaste?

    Na etapa de processamento de back-end, o wafer (placa de silício com circuitos na frente) precisa ser adelgaçado na parte de trás antes dos processos subsequentes de corte, soldagem e encapsulamento, para reduzir a altura de montagem do encapsulamento, diminuir o volume do chip e melhorar a dissipação térmica do chip.
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  • Processo de síntese de pó monocristalino de SiC de alta pureza

    Processo de síntese de pó monocristalino de SiC de alta pureza

    No processo de crescimento de monocristais de carbeto de silício, o transporte físico de vapor (PVT) é o método de industrialização predominante atualmente. Para o método de crescimento PVT, o pó de carbeto de silício exerce grande influência no processo de crescimento. Todos os parâmetros do pó de carbeto de silício são controlados...
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