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  • Processo BCD

    Processo BCD

    O que é o processo BCD? O processo BCD é uma tecnologia de processo integrado de chip único, introduzida pela ST em 1986. Essa tecnologia permite a criação de dispositivos bipolares, CMOS e DMOS no mesmo chip. Sua aparência reduz significativamente a área do chip. Pode-se dizer que o processo BCD utiliza totalmente...
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  • BJT, CMOS, DMOS e outras tecnologias de processo de semicondutores

    BJT, CMOS, DMOS e outras tecnologias de processo de semicondutores

    Bem-vindo ao nosso site para informações e consultas sobre produtos. Nosso site: https://www.vet-china.com/ À medida que os processos de fabricação de semicondutores continuam a avançar, uma famosa afirmação chamada "Lei de Moore" tem circulado no setor. Ela foi...
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  • Processo de padronização de semicondutores por fluxo de gravação

    Processo de padronização de semicondutores por fluxo de gravação

    A corrosão úmida inicial impulsionou o desenvolvimento de processos de limpeza ou incineração. Hoje, a corrosão a seco com plasma tornou-se o processo de corrosão mais comum. O plasma consiste em elétrons, cátions e radicais. A energia aplicada ao plasma faz com que os elétrons mais externos...
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  • Pesquisa sobre forno epitaxial de SiC de 8 polegadas e processo homoepitaxial-II

    Pesquisa sobre forno epitaxial de SiC de 8 polegadas e processo homoepitaxial-II

    2 Resultados experimentais e discussão 2.1 Espessura e uniformidade da camada epitaxial A espessura da camada epitaxial, a concentração de dopagem e a uniformidade são indicadores essenciais para avaliar a qualidade de wafers epitaxiais. Espessura e concentração de dopagem controláveis ​​com precisão...
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  • Pesquisa sobre forno epitaxial de SiC de 8 polegadas e processo homoepitaxial-Ⅰ

    Pesquisa sobre forno epitaxial de SiC de 8 polegadas e processo homoepitaxial-Ⅰ

    Atualmente, a indústria de SiC está passando de 150 mm (6 polegadas) para 200 mm (8 polegadas). Para atender à demanda urgente por wafers homoepitaxiais de SiC de grande porte e alta qualidade na indústria, wafers homoepitaxiais de 4H-SiC de 150 mm e 200 mm foram preparados com sucesso em...
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  • Otimização da estrutura de poros de carbono poroso - II

    Otimização da estrutura de poros de carbono poroso - II

    Bem-vindo ao nosso site para informações e consultas sobre produtos. Nosso site: https://www.vet-china.com/ Método de ativação física e química. O método de ativação física e química refere-se ao método de preparação de materiais porosos pela combinação das duas atividades acima...
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  • Otimização da estrutura de poros de carbono poroso-Ⅰ

    Otimização da estrutura de poros de carbono poroso-Ⅰ

    Bem-vindo ao nosso site para informações e consultas sobre produtos. Nosso site: https://www.vet-china.com/ Este artigo analisa o mercado atual de carvão ativado, realiza uma análise aprofundada das matérias-primas do carvão ativado, apresenta a estrutura dos poros...
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  • Fluxo de processo de semicondutores-II

    Fluxo de processo de semicondutores-II

    Bem-vindo ao nosso site para informações e consultas sobre produtos. Nosso site: https://www.vet-china.com/ Condicionamento de Poli e SiO2: Após isso, o excesso de Poli e SiO2 é removido por ataque químico. Nesse momento, utiliza-se o ataque direcional. Na classificação...
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  • Fluxo de processo de semicondutores

    Fluxo de processo de semicondutores

    Você pode entendê-lo mesmo que nunca tenha estudado física ou matemática, mas é um pouco simples demais e adequado para iniciantes. Se quiser saber mais sobre CMOS, leia o conteúdo desta edição, porque somente depois de entender o fluxo do processo (ou seja...)
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