SILIZIOZKO OBLEA
sitronic-etik
Aobleasiliziozko xerra bat da, milimetro bateko lodiera duena, gainazal oso laua duena, teknikoki oso zorrotzak diren prozedurei esker. Ondorengo erabilerak zehazten du zein kristal hazteko prozedura erabili behar den. Czochralski prozesuan, adibidez, silizio polikristalinoa urtzen da eta hazi-kristal mehe bat silizio urtuan murgiltzen da. Ondoren, hazi-kristala biratu eta poliki-poliki gorantz tiratzen da. Koloso oso astun bat lortzen da, monokristal bat. Monokristalaren ezaugarri elektrikoak hautatzea posible da dopante puruen unitate txikiak gehituz. Kristalak bezeroaren zehaztapenen arabera dopatzen dira eta gero leundu eta xerratan mozten dira. Hainbat ekoizpen-urrats gehigarriren ondoren, bezeroak bere obleak ontzi berezietan jasotzen ditu, eta horrek bezeroari erabiltzeko aukera ematen dio.obleaberehala bere ekoizpen-katean.
Gaur egun, silizio monokristalinoen zati handi bat Czochralski prozesuaren arabera hazten da, eta prozesu horrek silizio polikristalino purua urtzea dakar kuartzozko arrago hiperpuro batean eta dopantea gehitzea (normalean B, P, As, Sb). Hazi-kristal monokristalino mehe bat murgiltzen da silizio urtuan. Ondoren, CZ kristal handi bat garatzen da kristal mehe horretatik. Silizio urtuaren tenperaturaren eta fluxuaren, kristalaren eta arragoaren biraketaren eta kristalaren tiratze-abiaduraren erregulazio zehatzak kalitate handiko silizio monokristalino lingote bat sortzen du.
Argitaratze data: 2021eko ekainak 3