-
Fallstudie: Däitsche Vakuumuewen C/C Komposit Hot Zone Upgrade: Anti-Deformatioun a Liichtgewiicht
Fallstudie | Hot Zone Materials Däitsche Vakuumuewen C/C Komposit Hot Zone Upgrade: Anti-Deformatioun a Liichtgewiicht Vum Dr. Wang | CTO, Hot Zone Materials Division, VET Energy 27. August 2026 -62% Taragewiicht vun der Hot Zone +35% Nettobelaaschtungskapazitéit -22% Läschenergie >3x Komponent L...Liest méi -
Fallstudie: Verbesserung vun der Ausbeutung a Liewensdauer vu CZ-Kristaller mat héichreinege Grafit-Tichelcher
Fallstudie: Verbesserung vun der Ausbeutung a Liewensdauer vu CZ-Kristaller mat héichreinege Graphit-Tichelcher Ingenieursleitung: Dr. Marcus an den Ingenieursteam fir Kristallthermesch Felder a Materialien mat héijer Reinheet Technesche Bericht: Fallstudie fir VET Semiconductor Materials & Process Optimization (...Liest méi -
Fallstudie: Héichreine Grafitkomponenten fir 32-Zoll monokristallin thermesch Felder am N-Typ Siliziumwuesstem
Fallstudie: Héichreinheetsgrafitkomponenten fir 32-Zoll monokristallin thermesch Felder a N-Typ Siliziumwuesstum Auteur: Dr. Steven Qiu, Senior Semiconductor Materials Engineer & Techneschen Direkter bei VET Energy Verëffentlecht: August 2026 | Technesche Feldbericht & Ingenieursanalyse ...Liest méi -
E komplette Guide fir héichreine Grafit-Susceptoren
An der moderner Fabrikatioun vu Hallefleederkomponenten a bei der Produktioun vu Compound-Halbleeder vun der drëtter Generatioun (wéi Siliziumcarbid [SiC] a Galliumnitrid [GaN]) dréinen sech d'Diskussiounen an der Industrie dacks ëm ultra-fortgeschratt EUV-Lithographiemaschinnen, Plasmaätzer oder d'Reinheet vu Virleefergaser. Wéi och ëmmer, bannent ...Liest méi -
Héichreinheets-Graphit-Heizléisungen fir Hallefleiter-Epitaxie
Héichreine Grafit-Heizléisungen fir Hallefleiter-Epitaxie An Héichtemperatur-Halbleiterprozesser wéi MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) a SiC-Epitaxialwuesstem bestëmmt d'Thermofeldkontroll direkt d'Uniformitéit vun der Filmoflagerungsdicke, d'Dotierungskonzentratioun an d'U...Liest méi -
Erklärung vum Grafit-Titel: Materialeigenschaften, Fabrikatiounsprozess an Uwendungen an Héichtemperatur-Hallefleiterprozesser
Aféierung: Grafit-Titel - Kritesch Komponenten fir d'Produktioun bei extremen Héichtemperaturen Am Beräich vun der moderner High-End-Produktioun vertrauen vill kritesch Prozesser op Ëmfeld, déi duerch extrem Hëtzt charakteriséiert sinn. Vun der traditioneller Metallschmëlzung bis zur Produktioun vun Drëttgeneratioun...Liest méi -
Benotzerdefinéiert héichreine isostatesch Grafit-Titelgehäuse: Wéi een Rëss- a Kontaminatiounsproblemer beim Héichfrequenz-Induktiounsschmelzen léist
1. Executive Summary / Schlësseldateniwwerbléck: Vun 12 bis 40 Zyklen - Kloer Risiko- a Wäertbewäertung Kär Konklusioun: De Client huet ufanks dacks Rëss an Äschekontaminatioun beim Héichfrequenz-Induktiounsschmelzen erlieft. Eis Léisung war en isostatesche Graphit-Tigel - optiméiert duerch Mat...Liest méi -
Veraarbechtung a Eegeschafte vu poröser Siliziumkarbidkeramik
Ⅰ. Aféierung Poréis Siliziumkarbid (poréis SiC) Keramik ass fortgeschratt Keramikmaterialien, déi déi aussergewéinlech Eegeschafte vu Siliziumkarbid mat enger suergfälteg entwéckelter poröser Struktur kombinéieren. Am Géigesaz zu dichter SiC-Keramik féiert poréis SiC zu verbonnenen Poren, déi zousätzlech...Liest méi -
Technescht Handbuch & Auswielguide fir héichreine isostatesche Grafit-Titel fir Induktiounsschmelz a Hallefleiterprozesser
1. Materialingenieurwesen & Kär Technesch Spezifikatiounen Kär Insight: Kalt Isostatescht Pressen (CIP) erstellt eng héichdichteg, eenheetlech Mikrostruktur, déi traditionell extrudéiert oder vibratiounsgeformt Graphit a punkto mechanescher Stäerkt, Erosiounsbeständegkeet an thermescher Effizienz däitlech iwwertrëfft...Liest méi