Siliziumkarbid-Tragträgeris a SchlësselKomponent, déi a verschiddene Prozesser vun der Halbleiterproduktioun benotzt gëtt.Mir benotzen eis patentéiert Technologie fir den Siliziumkarbidträger matextrem héich Rengheet,guttBeschichtungEenheetlechkeetan eng exzellent Liewensdauer, souwéihéich chemesch Resistenz an thermesch Stabilitéitseigenschaften.
VET Energie ass denrichtege Produzent vu personaliséierte Graphit- a Siliziumcarbidprodukter mat CVD-Beschichtung,kann liwwerenverschiddenPersonnaliséiert Deeler fir d'Hallefleeder- a Photovoltaikindustrie. OEis technesch Equipe kënnt aus den Top-Fuerschungsinstituter aus dem Inland a kann méi professionell Materialléisungen ubiddenfir dech.
Mir entwéckelen kontinuéierlech fortgeschratt Prozesser fir méi fortgeschratt Materialien ze liwweren,anhunn eng exklusiv patentéiert Technologie entwéckelt, déi d'Verbindung tëscht der Beschichtung an dem Substrat méi enk a manner ufälleg fir Ofléisen maache kann.
FEegeschafte vun eise Produkter:
1. Héichtemperatur-Oxidatiounsbeständegkeet bis zu 1700℃.
2. Héich Rengheet anthermesch Uniformitéit
3. Excellent Korrosiounsbeständegkeet: Säure, Alkali, Salz an organesch Reagenzien.
4. Héich Härkeet, kompakt Uewerfläch, fein Partikelen.
5. Méi laang Liewensdauer a méi haltbar
| CVD SiC薄膜基本物理性能 Basis physikalesch Eegeschafte vu CVD SiCBeschichtung | |
| 性质 / Immobilie | 典型数值 / Typesche Wäert |
| 晶体结构 / Kristallstruktur | FCC β Phase多晶,主要为(111) 取向 |
| 密度 / Dicht | 3,21 g/cm³ |
| 硬度 / Häert | 2500 维氏硬度(500g Belaaschtung) |
| 晶粒大小 / Kärengréisst | 2~10μm |
| 纯度 / Chemesch Rengheet | 99,99995% |
| 热容 / Hëtztkapazitéit | 640 J·kg-1·K-1 |
| 升华温度 / Sublimatiounstemperatur | 2700℃ |
| 抗弯强度 / Biegfestigkeit | 415 MPa RT 4-Punkt |
| 杨氏模量 / Young säi Modul | 430 Gpa 4pt Bieg, 1300℃ |
| 导热系数 / ThermalKonduktivitéit | 300W·m-1·K-1 |
| 热膨胀系数 / Thermesch Expansioun (CTE) | 4,5×10-6K-1 |
Mir wëllkomm Iech häerzlech wëllkomm fir eis Fabréck ze besichen, loosst eis weider diskutéieren!
-
Hiersteller vun Tantalkarbid (TaC) Beschichtungen zu ...
-
Héichreinheetsfest CVD SiC Bulk mat Graphitbasis
-
SiC beschichtete Grafit Hallefmounddeel fir Silizium C ...
-
Tantalkarbid Beschichtete Susceptor fir Wafer
-
Héichleistungs Tantalkarbid beschichtete porös...
-
Rekristalliséiert Siliziumkarbid Waferboot mat ...






