Grafita b'kisja TaC

I. Esplorazzjoni tal-parametri tal-proċess

1. Sistema TaCl5-C3H6-H2-Ar

2. Temperatura tad-depożizzjoni:

Skont il-formula termodinamika, huwa kkalkulat li meta t-temperatura tkun akbar minn 1273K, l-enerġija ħielsa ta' Gibbs tar-reazzjoni tkun baxxa ħafna u r-reazzjoni tkun relattivament kompluta. Il-kostanti tar-reazzjoni KP hija kbira ħafna f'1273K u tiżdied malajr mat-temperatura, u r-rata tat-tkabbir tonqos gradwalment f'1773K.

Influwenza fuq il-morfoloġija tal-wiċċ tal-kisi: Meta t-temperatura ma tkunx adattata (għolja wisq jew baxxa wisq), il-wiċċ jippreżenta morfoloġija ta' karbonju ħieles jew pori maħlula.

(1) F'temperaturi għoljin, il-veloċità tal-moviment tal-atomi jew gruppi ta' reatturi attivi hija mgħaġġla wisq, u dan iwassal għal distribuzzjoni irregolari waqt l-akkumulazzjoni tal-materjali, u ż-żoni rikki u dawk foqra ma jistgħux jagħmlu tranżizzjoni bla xkiel, u dan jirriżulta f'pori.

(2) Hemm differenza bejn ir-rata tar-reazzjoni tal-piroliżi tal-alkani u r-rata tar-reazzjoni tat-tnaqqis tat-tantalu pentaklorur. Il-karbonju tal-piroliżi huwa eċċessiv u ma jistax jiġi kkombinat mat-tantalu fil-ħin, u dan jirriżulta fit-tgeżwir tal-wiċċ bil-karbonju.

Meta t-temperatura tkun xierqa, il-wiċċ tal-Kisi tat-TaChuwa dens.

TaCil-partiċelli jdubu u jaggregaw ma' xulxin, il-forma tal-kristall tkun kompluta, u l-konfini tal-qamħ jinbidel bla xkiel.

3. Proporzjon tal-idroġenu:

Barra minn hekk, hemm ħafna fatturi li jaffettwaw il-kwalità tal-kisi:

-Kwalità tal-wiċċ tas-sottostrat

-Qasam tal-gass tad-depożizzjoni

-Il-grad ta' uniformità tat-taħlit tal-gass reattiv

II. Difetti tipiċi ta'kisi tat-tantalju karbur

1. Kisi li jixxaqqaq u jitqaxxar

Koeffiċjent ta' espansjoni termali lineari CTE lineari:

2. Analiżi tad-difetti:

(1) Kawża:

(2) Metodu ta' karatterizzazzjoni

① Uża t-teknoloġija tad-diffrazzjoni tar-raġġi-X biex tkejjel it-tensjoni residwa.

② Uża l-liġi ta' Hu Ke biex tikkalkula l-istress residwu.

(3) Formuli relatati

3. Ittejjeb il-kompatibilità mekkanika tal-kisi u s-sottostrat

(1) Kisi tat-tkabbir in situ tal-wiċċ

Teknoloġija ta' depożizzjoni u diffużjoni ta' reazzjoni termali TRD

Proċess tal-melħ imdewweb

Issimplifika l-proċess tal-produzzjoni

Naqqas it-temperatura tar-reazzjoni

Spiża relattivament aktar baxxa

Aktar favur l-ambjent

Adattat għal produzzjoni industrijali fuq skala kbira

(2) Kisi ta' transizzjoni kompost

Proċess ta' ko-depożizzjoni

CVDproċess

Kisi b'ħafna komponenti

Il-kombinazzjoni tal-vantaġġi ta' kull komponent

Aġġusta b'mod flessibbli l-kompożizzjoni u l-proporzjon tal-kisi

4. Teknoloġija ta' depożizzjoni u diffużjoni ta' reazzjoni termali TRD

(1) Mekkaniżmu ta' Reazzjoni

It-teknoloġija TRD tissejjaħ ukoll proċess ta' inkorporazzjoni, li juża sistema ta' aċidu boriku-pentossidu tat-tantalu-fluworidu tas-sodju-ossidu tal-boron-karbur tal-boron biex tippreparakisi tat-tantalju karbur.

① L-aċidu boriku mdewweb iħoll il-pentossidu tat-tantalu;

② Il-pentossidu tat-tantalu jitnaqqas għal atomi tat-tantalu attivi u jinfirex fuq il-wiċċ tal-grafita;

③ L-atomi attivi tat-tantalu jiġu assorbiti fuq il-wiċċ tal-grafita u jirreaġixxu mal-atomi tal-karbonju biex jiffurmawkisi tat-tantalju karbur.

(2) Ċavetta ta' Reazzjoni

It-tip ta' kisi tal-karbur irid jissodisfa r-rekwiżit li l-enerġija ħielsa tal-formazzjoni tal-ossidazzjoni tal-element li jifforma l-karbur tkun ogħla minn dik tal-ossidu tal-boron.

L-enerġija ħielsa ta' Gibbs tal-karbur hija baxxa biżżejjed (inkella, jistgħu jiffurmaw boron jew borur).

Il-pentossidu tat-tantalu huwa ossidu newtrali. Fil-borax imdewweb f'temperatura għolja, jista' jirreaġixxi mal-ossidu alkalin qawwi tas-sodju biex jifforma tantalat tas-sodju, u b'hekk inaqqas it-temperatura inizjali tar-reazzjoni.