I. प्रक्रिया प्यारामिटर अन्वेषण
१. TaCl5-C3H6-H2-Ar प्रणाली
२. निक्षेपण तापक्रम:
थर्मोडायनामिक सूत्र अनुसार, यो गणना गरिन्छ कि जब तापक्रम १२७३K भन्दा बढी हुन्छ, प्रतिक्रियाको गिब्स मुक्त ऊर्जा धेरै कम हुन्छ र प्रतिक्रिया अपेक्षाकृत पूर्ण हुन्छ। प्रतिक्रिया स्थिरांक KP १२७३K मा धेरै ठूलो हुन्छ र तापक्रमसँगै द्रुत गतिमा बढ्छ, र वृद्धि दर १७७३K मा बिस्तारै सुस्त हुन्छ।
कोटिंगको सतह आकारविज्ञानमा प्रभाव: जब तापक्रम उपयुक्त हुँदैन (धेरै उच्च वा धेरै कम), सतहमा मुक्त कार्बन आकारविज्ञान वा खुकुलो छिद्रहरू प्रस्तुत हुन्छन्।
(१) उच्च तापक्रममा, सक्रिय अभिक्रियाक परमाणु वा समूहहरूको चाल गति धेरै छिटो हुन्छ, जसले गर्दा सामग्रीहरूको संचयको क्रममा असमान वितरण हुन्छ, र धनी र गरिब क्षेत्रहरू सहज रूपमा संक्रमण गर्न सक्दैनन्, जसको परिणामस्वरूप छिद्रहरू हुन्छन्।
(२) अल्केन्सको पाइरोलिसिस प्रतिक्रिया दर र ट्यान्टलम पेन्टाक्लोराइडको रिडक्सन प्रतिक्रिया दर बीच भिन्नता छ। पाइरोलिसिस कार्बन अत्यधिक हुन्छ र समयमै ट्यान्टलमसँग मिलाउन सकिँदैन, जसले गर्दा सतह कार्बनले बेरिन्छ।
तापक्रम उपयुक्त हुँदा, सतहTaC कोटिंगबाक्लो छ।
TaCकणहरू पग्लिन्छन् र एकअर्कासँग मिल्छन्, क्रिस्टलको रूप पूरा हुन्छ, र अन्नको सीमा सहज रूपमा संक्रमण हुन्छ।
३. हाइड्रोजन अनुपात:
यसको अतिरिक्त, कोटिंगको गुणस्तरलाई असर गर्ने धेरै कारकहरू छन्:
-सब्सट्रेट सतह गुणस्तर
- ग्यास क्षेत्र जम्मा गर्ने
- रिएक्टेन्ट ग्यास मिश्रणको एकरूपताको डिग्री
II. को विशिष्ट दोषहरूट्यान्टलम कार्बाइड कोटिंग
१. कोटिंग फुट्ने र पिलिङ्ग हुने
रेखीय थर्मल विस्तार गुणांक रेखीय CTE:
२. दोष विश्लेषण:
(१) कारण:
(२) चरित्र वर्णन विधि
① अवशिष्ट तनाव मापन गर्न एक्स-रे विवर्तन प्रविधि प्रयोग गर्नुहोस्।
② अवशिष्ट तनाव अनुमान गर्न हु के नियम प्रयोग गर्नुहोस्।
(३) सम्बन्धित सूत्रहरू
३. कोटिंग र सब्सट्रेटको मेकानिकल अनुकूलता बढाउनुहोस्
(१) सतह भित्र-स्थिति वृद्धि कोटिंग
थर्मल प्रतिक्रिया निक्षेपण र प्रसार प्रविधि TRD
पग्लिएको नुन प्रक्रिया
उत्पादन प्रक्रिया सरल बनाउनुहोस्
प्रतिक्रियाको तापक्रम घटाउनुहोस्
तुलनात्मक रूपमा कम लागत
बढी वातावरणमैत्री
ठूलो मात्रामा औद्योगिक उत्पादनको लागि उपयुक्त
(२) कम्पोजिट ट्रान्जिसन कोटिंग
सह-निक्षेपण प्रक्रिया
सीभीडीप्रक्रिया
बहु-घटक कोटिंग
प्रत्येक घटकको फाइदाहरू संयोजन गर्दै
कोटिंग संरचना र अनुपात लचिलो रूपमा समायोजन गर्नुहोस्
४. थर्मल प्रतिक्रिया निक्षेपण र प्रसार प्रविधि TRD
(१) प्रतिक्रिया संयन्त्र
TRD प्रविधिलाई इम्बेडिङ प्रक्रिया पनि भनिन्छ, जसले बोरिक एसिड-ट्यान्टालम पेन्टोक्साइड-सोडियम फ्लोराइड-बोरन अक्साइड-बोरन कार्बाइड प्रणाली तयार गर्न प्रयोग गर्दछ।ट्यान्टलम कार्बाइड कोटिंग.
① पग्लिएको बोरिक एसिडले ट्यान्टलम पेन्टोक्साइडलाई पगाल्छ;
② ट्यान्टालम पेन्टोक्साइड सक्रिय ट्यान्टालम परमाणुहरूमा घटाइन्छ र ग्रेफाइट सतहमा फैलिन्छ;
③ सक्रिय ट्यान्टलम परमाणुहरू ग्रेफाइट सतहमा सोसिन्छन् र कार्बन परमाणुहरूसँग प्रतिक्रिया गरेर बन्छन्ट्यान्टलम कार्बाइड कोटिंग.
(२) प्रतिक्रिया कुञ्जी
कार्बाइड कोटिंगको प्रकारले कार्बाइड बनाउने तत्वको अक्सिडेशन गठन मुक्त ऊर्जा बोरोन अक्साइडको भन्दा बढी हुनु पर्ने आवश्यकता पूरा गर्नुपर्छ।
कार्बाइडको गिब्स मुक्त ऊर्जा पर्याप्त कम छ (अन्यथा, बोरोन वा बोराइड बन्न सक्छ)।
ट्यान्टालम पेन्टोक्साइड एक तटस्थ अक्साइड हो। उच्च-तापमान पग्लिएको बोराक्समा, यसले बलियो क्षारीय अक्साइड सोडियम अक्साइडसँग प्रतिक्रिया गरेर सोडियम ट्यान्टालेट बनाउन सक्छ, जसले गर्दा प्रारम्भिक प्रतिक्रिया तापक्रम घट्छ।
पोस्ट समय: नोभेम्बर-२१-२०२४