Графит со TaC облога

I. Истражување на параметрите на процесот

1. Систем TaCl5-C3H6-H2-Ar

2. Температура на таложење:

Според термодинамичката формула, се пресметува дека кога температурата е поголема од 1273K, слободната енергија на Гибс на реакцијата е многу ниска и реакцијата е релативно завршена. Константата на реакцијата KP е многу голема на 1273K и брзо се зголемува со температурата, а стапката на раст постепено се забавува на 1773K.

Влијание врз површинската морфологија на премазот: Кога температурата не е соодветна (превисока или прениска), површината покажува морфологија на слободен јаглерод или лабави пори.

(1) На високи температури, брзината на движење на активните атоми или групи на реактантите е преголема, што ќе доведе до нееднаква распределба за време на акумулацијата на материјалите, а богатите и сиромашните области не можат непречено да се менуваат, што резултира со пори.

(2) Постои разлика помеѓу брзината на реакцијата на пиролиза на алканите и брзината на реакцијата на редукција на тантал пентахлоридот. Јаглеродот од пиролиза е прекумерен и не може да се комбинира со тантал со текот на времето, што резултира со површина обвиткана со јаглерод.

Кога температурата е соодветна, површината наTaC облогае густ.

ТаЦЧестичките се топат и се агрегираат едни со други, кристалната форма е комплетна, а границата на зрното се менува непречено.

3. Однос на водород:

Покрај тоа, постојат многу фактори кои влијаат на квалитетот на облогата:

-Квалитет на површината на подлогата

-Поле за таложење на гас

-Степенот на униформност на мешањето на реактантите

II. Типични дефекти натантал карбиден премаз

1. Пукање и лупење на облогата

Линеарен коефициент на термичка експанзија линеарен CTE:

2. Анализа на дефекти:

(1) Причина:

(2) Метод на карактеризација

① Користете технологија за дифракција на Х-зраци за мерење на преостанатото оптоварување.

② Користете го Ху Кеовиот закон за приближно пресметување на преостанатиот стрес.

(3) Поврзани формули

3. Зголемување на механичката компатибилност на премазот и подлогата

(1) Површински премаз за раст in-situ

Технологија на термичко реагирање и дифузија TRD

Процес на стопена сол

Поедноставете го процесот на производство

Намалете ја температурата на реакцијата

Релативно пониска цена

Поеколошки

Погодно за индустриско производство во големи размери

(2) Композитен преоден слој

Процес на ко-таложење

КВБпроцес

Мултикомпонентен премаз

Комбинирање на предностите на секоја компонента

Флексибилно прилагодете го составот и пропорцијата на облогата

4. Технологија на термичко реагирање и дифузија TRD

(1) Механизам на реакција

TRD технологијата се нарекува и процес на вградување, која користи систем од борна киселина-тантал пентоксид-натриум флуорид-бор оксид-бор карбид за подготовкатантал карбиден премаз.

① Растопената борна киселина го раствора танталовиот пентоксид;

② Тантал пентоксидот се редуцира до активни атоми на тантал и дифундира на површината на графитот;

③ Активните атоми на тантал се адсорбираат на површината на графитот и реагираат со атоми на јаглерод за да формирааттантал карбиден премаз.

(2) Клуч на реакција

Видот на карбидна обвивка мора да го задоволи условот дека енергијата на слободна формација на оксидација на елементот што го формира карбидот е поголема од онаа на бор оксидот.

Гибсовата слободна енергија на карбидот е доволно ниска (во спротивно, може да се формира бор или борид).

Тантал пентоксидот е неутрален оксид. Во стопен боракс на висока температура, може да реагира со силниот алкален оксид натриум оксид за да формира натриум танталат, со што се намалува почетната температура на реакцијата.