Ufiufi CVD

Ufiufi CVD mo le Fa'agasologa Maualuga o Semiconductor

Ua mamanuina mo siosiomaga taua o le gaosiga o semiconductor, o matou vali Chemical Vapor Deposition (CVD) Silicon Carbide (SiC), Tantalum Carbide (TaC), ma le Pyrolytic Carbon (PyC) e tuʻuina atu ai le le gaoioi o vailaʻau, le mautu tele o le vevela, ma le mama tele (< 5 ppm). Ua mamanuina e puipuia ai le graphite ma le seramika mama maualuga mai le plasma malosi, kasa faʻagasologa tali atu, ma le taamilosaga maualuga o le vevela, o matou vali faʻapitoa e faʻaitiitia ai le gaosiga o vaega ma faʻalauteleina ai le umi o le ola o vaega i totonuSilicon/SiC Epitaxy, MOCVD, Plasma Etching, ma le Monocrystal Growthtalosaga.

Mama Maualuga Tele (< 5 ppm)

E maualalo le leaga o metala ua fa'amaonia e le GDMS e puipuia ai le fa'aleagaina o le wafer i faiga taua.

Tete'e Sili Atu i le Plasma ma le Kasa

O le fausaga mafiafia o le tioata e puipuia ai mai le plasma halogen (CF₄, NF₃, Cl₂) ma kasa 'a'ai.

Fa'aleleia le Fetu'una'iga o le Vevela

O le pulea lelei o le CTE e aveese ai le māvaevae ma le veleeseina o ufiufi pe a oo i ni te'i ogaoga o le vevela.

Ituaiga Ufiufi	Tulaga Autū Fa'atekinolosi	Talosaga mo le Fa'agasologa Autū
Ufiufi CVD SiC	Maualuga le fa'avevela o le vevela, tete'e lelei tele i le fa'aleagaina o le plasma	Dry Etch, Si Epitaxy, MOCVD, Crystal Growth
Ufiufi CVD TaC	Tete'e atu i le vevela tele (>2000°C), puipuiga mai le 'ele'ele o le H₂/SiH₄	SiC Epitaxy, Tuputupu Aʻe o le SiC PVT e Tasi le Kilisitala
Ufiufi PyC	Fa'amaufa'ailoga kesi Hermetic, luga kaponi anisotropic ultra-lamolemole	Fa'amafanafanaga o le fanua vevela, CZ Monocrystalline Silicon