Ufiufi CVD mo le Fa'agasologa Maualuga o Semiconductor

Ua mamanuina mo siosiomaga taua o le gaosiga o semiconductor, o matou vali Chemical Vapor Deposition (CVD) Silicon Carbide (SiC), Tantalum Carbide (TaC), ma le Pyrolytic Carbon (PyC) e tuʻuina atu ai le le gaoioi o vailaʻau, le mautu tele o le vevela, ma le mama tele (< 5 ppm). Ua mamanuina e puipuia ai le graphite ma le seramika mama maualuga mai le plasma malosi, kasa faʻagasologa tali atu, ma le taamilosaga maualuga o le vevela, o matou vali faʻapitoa e faʻaitiitia ai le gaosiga o vaega ma faʻalauteleina ai le umi o le ola o vaega i totonuSilicon/SiC Epitaxy, MOCVD, Plasma Etching, ma le Monocrystal Growthtalosaga.