Anello di tenuta in SiC

Descrizione:

Il carburo di silicio possiede eccellenti proprietà di resistenza alla corrosione, elevata resistenza meccanica, alta conduttività termica e buona autolubrificazione. Viene utilizzato come materiale per superfici di tenuta, cuscinetti e tubi in applicazioni quali veicoli spaziali, macchinari, metallurgia, stampa e tintura, industria alimentare, farmaceutica, automobilistica e altro ancora. Quando le superfici in carburo di silicio vengono combinate con superfici in grafite, l'attrito è minimo e si possono realizzare tenute meccaniche in grado di operare nelle condizioni più gravose.

Proprietà fondamentali del carburo di silicio:

-Bassa densità

-Elevata conduttività termica (simile a quella dell'alluminio)

-Buona resistenza agli shock termici

-Resistente ai liquidi e ai gas

-Elevata refrattarietà (utilizzabile a 1450℃ in aria e a 1800℃ in atmosfera neutra)

-Non è soggetto a corrosione e non va a contatto con alluminio fuso o zinco fuso.

-Elevata durezza

-Basso coefficiente di attrito

-resistenza all'abrasione

-Resiste agli acidi basici e forti

-Lucidabile

-Elevata resistenza meccanica

Applicazione del carburo di silicio:

-Tenute meccaniche, cuscinetti, cuscinetti reggispinta, ecc.

-Giunti rotanti

-Semiconduttori e rivestimenti

-Pannunci Componenti della pompa

-Componenti chimici

-Specchi per sistemi laser industriali.

- Reattori a flusso continuo, scambiatori di calore, ecc.

Caratteristica
Il carburo di silicio si forma in due modi:

1)Pcarburo di silicio sinterizzato senza pressione

Dopo l'incisione del materiale in carburo di silicio sinterizzato senza pressione, il diagramma di fase cristallina osservato al microscopio ottico 200X mostra che la distribuzione e le dimensioni dei cristalli sono uniformi e che il cristallo più grande non supera i 10 μm.

2) Rcarburo di silicio sinterizzato ad azione

Dopo la reazione il carburo di silicio sinterizzato tratta chimicamente la sezione piatta e liscia del materiale, il cristallo
La distribuzione e le dimensioni, osservate al microscopio ottico 200X, risultano uniformi e il contenuto di silicio libero non supera il 12%.