SiCコーティンググラファイトMOCVDウェーハキャリア、グラファイトサセプターSiCエピタキシー用
炭素供給サセプター, エピタキシーサセプター, グラファイトサセプター,

CVD-SiCコーティングは、均一な構造、緻密な材料​​、耐高温性、耐酸化性、高純度、耐酸性・耐アルカリ性、有機試薬に対する耐性、安定した物理的・化学的特性などの特徴を備えています。

高純度グラファイト材料と比較すると、グラファイトは400℃で酸化が始まり、酸化による粉末の損失を引き起こし、周辺機器や真空チャンバーへの環境汚染を引き起こし、高純度環境の不純物を増加させます。

しかし、SiCコーティングは1600度でも物理的および化学的安定性を維持できるため、現代の産業、特に半導体産業で広く使用されています。

当社は、CVD法を用いてグラファイト、セラミックス等の材料表面にSiCコーティング加工サービスを提供しています。炭素とシリコンを含む特殊ガスを高温で反応させることで、高純度のSiC分子が得られます。この分子はコーティングされた材料の表面に堆積し、SiC保護層を形成します。形成されたSiCはグラファイト基材に強固に結合し、グラファイト基材に特殊な特性を付与します。これにより、グラファイト表面は緻密で、無孔性、耐高温性、耐腐食性、耐酸化性などの特性を備えています。

応用：

主な特徴:

1. 高温酸化耐性：

温度が 1700 ℃ まで上昇しても、耐酸化性は非常に良好です。

2. 高純度：高温塩素化条件下での化学蒸着により製造されます。

3. 耐侵食性：高硬度、緻密な表面、微粒子。

4. 耐腐食性：酸、アルカリ、塩、有機試薬。

CVD-SICコーティングの主な仕様：

供給能力:

月産10000個
梱包と配送:
梱包：標準および強力な梱包
ポリ袋 + 箱 + カートン + パレット
ポート：
寧波/深セン/上海
リードタイム：