ಸುಧಾರಿತ ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ಸಂಸ್ಕರಣೆಗಾಗಿ CVD ಲೇಪನಗಳು

ನಿರ್ಣಾಯಕ ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ಉತ್ಪಾದನಾ ಪರಿಸರಕ್ಕಾಗಿ ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲಾದ ನಮ್ಮ ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ (CVD) ಸಿಲಿಕಾನ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ (SiC), ಟ್ಯಾಂಟಲಮ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ (TaC), ಮತ್ತು ಪೈರೋಲಿಟಿಕ್ ಕಾರ್ಬನ್ (PyC) ಲೇಪನಗಳು ಅತ್ಯುತ್ತಮ ರಾಸಾಯನಿಕ ಜಡತ್ವ, ತೀವ್ರ ಉಷ್ಣ ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು ಅಲ್ಟ್ರಾ-ಹೈ ಶುದ್ಧತೆಯನ್ನು (< 5 ppm) ನೀಡುತ್ತವೆ. ಆಕ್ರಮಣಕಾರಿ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ, ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಅನಿಲಗಳು ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಉಷ್ಣ ಚಕ್ರದಿಂದ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆಯ ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ ಮತ್ತು ಸೆರಾಮಿಕ್ ತಲಾಧಾರಗಳನ್ನು ರಕ್ಷಿಸಲು ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲಾದ ನಮ್ಮ ಸುಧಾರಿತ ಲೇಪನಗಳು ಕಣ ಉತ್ಪಾದನೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಘಟಕ ಜೀವಿತಾವಧಿಯನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ವಿಸ್ತರಿಸುತ್ತವೆ.ಸಿಲಿಕಾನ್/SiC ಎಪಿಟಾಕ್ಸಿ, MOCVD, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಎಚ್ಚಣೆ ಮತ್ತು ಏಕಸ್ಫಟಿಕ ಬೆಳವಣಿಗೆಅರ್ಜಿಗಳು.