Kupfeka kweCVD

CVD Coatings yeAdvanced Semiconductor Processing

Zvakagadzirwa kuti zvikwanise kugadzira zvinhu zvakasiyana-siyana, machira edu eChemical Vapor Deposition (CVD) Silicon Carbide (SiC), Tantalum Carbide (TaC), uye Pyrolytic Carbon (PyC) anopa kusagadzikana kwakanyanya kwemakemikari, kugadzikana kwakanyanya kwekupisa, uye kuchena kwakanyanya (<5 ppm). Akagadzirwa kuchengetedza graphite neceramic substrates dzakachena zvakanyanya kubva kuplasma ine simba, magasi ekugadzirisa, uye kupisa kwakanyanya, machira edu epamusoro anoderedza kugadzirwa kwezvikamu uye anowedzera hupenyu hwezvikamu muSilicon/SiC Epitaxy, MOCVD, Kuchekwa kwePlasma, uye Kukura kweMonocrystalmafomu.

Kuchena Kwakanyanya (<5 ppm)

Kusvibiswa kwesimbi kwakasimbiswa neGDMS kudzivirira kusvibiswa kwewafer mumabasa akakosha.

Kuramba Kwepamusoro kwePlasma & Gas

Maumbirwo ekristaro akakora anodzivirira kubva ku halogen plasma (CF₄, NF₃, Cl₂) uye magasi anoparadza.

Kuenzanisa Kwekupisa Kwakagadziriswa

Kudzora kwakasimba kweCTE kunobvisa kutsemuka kweganda uye kuputika kweganda kana paine kupisa kwakanyanya.

Rudzi rwekuputira	Chinhu Chinokosha Chehunyanzvi	Kushandiswa Kwekutanga Kwemaitiro
Kuputira kweCVD SiC	Kupisa kwakanyanya, kuramba kukuru kwekukura kweropa muplasma	Dry Etch, Si Epitaxy, MOCVD, Kukura kweCrystal
Kuputira kweCVD TaC	Kudzivirira kupisa kwakanyanya (>2000°C), H₂/SiH₄ chidziviriro chengura	Kukura kweSiC Epitaxy, Single-Crystal SiC PVT
Kuputira PyC	Kuvharwa kwegasi rinopinda mumhepo, pamusoro pekabhoni inotsvedzerera zvikuru	Kudzivirira kupisa kwemunda, CZ Monocrystalline Silicon