SiC povlakovací grafit MOCVD nosiče destiček, grafitové susceptory pro SiC epitaxi

SiC povlak grafit MOCVD nosiče destiček, grafitové susceptory pro SiC epitaxi Obrázek

Stručný popis:

Povlak SiC na grafitovém substrátu pro polovodičové aplikace vytváří součástky s vynikající čistotou a odolností vůči oxidační atmosféře. CVD SiC nebo CVI SiC se nanáší na grafit jednoduchých i složitých konstrukčních dílů. Povlak lze nanášet v různých tloušťkách a na velmi velké díly.

Místo původu:Zhejiang, Čína (pevnina)

Číslo modelu:Číslo modelu:

Chemické složení:Grafit potažený SiC

Pevnost v ohybu:470 MPa

Tepelná vodivost:300 W/mK

Kvalitní:Perfektní

Funkce:CVD-SiC

Aplikace:Polovodič / Fotovoltaika

Hustota:3,21 g/cm³

Tepelná roztažnost:4 10-6/K

Popel: <5 ppm

Ochutnat:K dispozici

Kód HS:6903100000

Pošlete nám e-mail Stáhnout jako PDF

Detaily produktu

Štítky produktů

SiC povlak grafit MOCVD nosiče destiček, grafitové susceptory proSiC epitaxe,
Uhlík dodává susceptory, Grafitové epitaxní susceptory, Grafitové nosné substráty, Susceptor MOCVD, SiC epitaxe, Susceptory na destičkách,

Mezi zvláštní výhody našich grafitových susceptorů s povlakem SiC patří extrémně vysoká čistota, homogenní povlak a vynikající životnost. Mají také vysokou chemickou odolnost a tepelnou stabilitu.

Povlak SiC na grafitovém substrátu pro polovodičové aplikace vytváří součástku s vynikající čistotou a odolností vůči oxidační atmosféře.
CVD SiC nebo CVI SiC se nanáší na grafit jednoduchých i složitých konstrukčních dílů. Povlak lze nanášet v různých tloušťkách a na velmi velké díly.

SiC povlak/povlak MOCVD susceptor

Vlastnosti:
· Vynikající odolnost proti tepelným šokům
· Vynikající odolnost proti fyzickým nárazům
· Vynikající chemická odolnost
· Super vysoká čistota
· Dostupnost ve složitém tvaru
· Použitelné v oxidační atmosféře

Aplikace:

Typické vlastnosti základního grafitového materiálu:

Zdánlivá hustota:	1,85 g/cm3
Elektrický odpor:	11 μΩm
Pevnost v ohybu:	49 MPa (500 kgf/cm2)
Tvrdost Shore:	58
Popel:	<5 ppm
Tepelná vodivost:	116 W/mK (100 kcal/mh℃)

Uhlík dodává susceptorya grafitové komponenty pro všechny současné epitaxní reaktory. Naše portfolio zahrnuje válcové susceptory pro aplikované a LPE jednotky, susceptory ve tvaru palačinek pro LPE, CSD a Gemini jednotky a susceptory s jednou destičkou pro aplikované a ASM jednotky. Díky spojení silných partnerství s předními výrobci originálního vybavení (OEM), odborných znalostí v oblasti materiálů a výrobního know-how nabízí SGL optimální konstrukci pro vaši aplikaci.