SiC povlakový grafit MOCVD nosiče doštičiek, grafitové susceptory pre SiC epitaxiu

Stručný popis:

Povlak SiC na grafitovom substráte pre polovodičové aplikácie vytvára súčiastky s vynikajúcou čistotou a odolnosťou voči oxidačnej atmosfére. CVD SiC alebo CVI SiC sa nanáša na grafit jednoduchých alebo zložitých konštrukcií. Povlak je možné nanášať v rôznych hrúbkach a na veľmi veľké súčiastky.

Miesto pôvodu:Zhejiang, Čína (pevnina)

Číslo modelu:Číslo modelu:

Chemické zloženie:Grafit potiahnutý SiC

Pevnosť v ohybe:470 MPa

Tepelná vodivosť:300 W/mK

Kvalita:Dokonalé

Funkcia:CVD-SiC

Aplikácia:Polovodičové / fotovoltaické

Hustota:3,21 g/cm3

Tepelná rozťažnosť:4 10-6/K

Popol: <5 ppm

Vzorka:Dostupné

Kód HS:6903100000

Pošlite nám e-mail Stiahnuť ako PDF

Detaily produktu

Značky produktov

SiC povlak grafit MOCVD nosiče doštičiek, grafitové susceptory preSiC epitaxia,
Uhlík dodáva susceptory, Grafitové epitaxné susceptory, Grafitové nosné substráty, Susceptor MOCVD, SiC epitaxia, Wafer Susceptory,

Medzi špeciálne výhody našich grafitových susceptorov s povlakom SiC patrí extrémne vysoká čistota, homogénny povlak a vynikajúca životnosť. Majú tiež vysokú chemickú odolnosť a tepelnú stabilitu.

Povlak SiC na grafitovom substráte pre polovodičové aplikácie vytvára súčiastku s vynikajúcou čistotou a odolnosťou voči oxidačnej atmosfére.
CVD SiC alebo CVI SiC sa nanáša na grafit jednoduchých alebo zložitých konštrukčných dielov. Povlak sa môže nanášať v rôznych hrúbkach a na veľmi veľké diely.

SiC povlak/povlak MOCVD susceptor

Vlastnosti:
· Vynikajúca odolnosť voči tepelným šokom
· Vynikajúca odolnosť voči fyzickým nárazom
· Vynikajúca chemická odolnosť
· Super vysoká čistota
· Dostupnosť v zložitom tvare
· Použiteľné v oxidačnej atmosfére

Aplikácia:

Typické vlastnosti základného grafitového materiálu:

Zdanlivá hustota:	1,85 g/cm3
Elektrický odpor:	11 μΩm
Pevnosť v ohybe:	49 MPa (500 kgf/cm2)
Tvrdosť podľa Shorea:	58
Popol:	<5 ppm
Tepelná vodivosť:	116 W/mK (100 kcal/mh℃)

Uhlík dodáva susceptorya grafitové komponenty pre všetky súčasné epitaxné reaktory. Naše portfólio zahŕňa valcové susceptory pre aplikované a LPE jednotky, susceptory v tvare pancake pre LPE, CSD a Gemini jednotky a susceptory s jednou doštičkou pre aplikované a ASM jednotky. Kombináciou silných partnerstiev s poprednými výrobcami originálnych dielov (OEM), odborných znalostí v oblasti materiálov a výrobného know-how ponúka SGL optimálny dizajn pre vašu aplikáciu.