SiC bevonatú grafit MOCVD ostyahordozók, grafit szuszceptorok SiC epitaxiához

Rövid leírás:

A grafit hordozó SiC bevonata félvezető alkalmazásokhoz kiváló tisztaságú és oxidáló atmoszférával szemben ellenálló alkatrészt eredményez. A CVD SiC vagy CVI SiC grafitra alkalmazható egyszerű vagy összetett kialakítású alkatrészek esetében. A bevonat különböző vastagságban és nagyon nagy alkatrészekre is felvihető.

Származási hely:Zhejiang, Kína (szárazföld)

Modellszám:Modellszám:

Kémiai összetétel:SiC bevonatú grafit

Hajlító szilárdság:470 MPa

Hővezető képesség:300 W/mK

Minőség:Tökéletes

Funkció:CVD-SiC

Alkalmazás:Félvezető / Fotovoltaikus

Sűrűség:3,21 g/cm³

Hőtágulás:4 10-6/K

Hamu: <5 ppm

Minta:Elérhető

HR-kód:6903100000

Küldjön nekünk e-mailt Letöltés PDF-ként

Termék részletei

Termékcímkék

SiC bevonatú grafit MOCVD ostyahordozók, grafit szuszceptorokSiC epitaxia,
A szén szuszceptorokat szállít, Grafit epitaxiás szuszceptorok, Grafit hordozó aljzatok, MOCVD szuszceptor, SiC epitaxia, Ostya szuszceptorok,

SiC-bevonatú grafit szuszceptoraink különleges előnyei közé tartozik a rendkívül nagy tisztaság, a homogén bevonat és a kiváló élettartam. Emellett magas kémiai ellenálló képességgel és hőstabilitással is rendelkeznek.

A félvezető alkalmazásokhoz használt grafit hordozó SiC bevonata kiváló tisztaságú és oxidáló atmoszférával szemben ellenálló alkatrészt eredményez.
A CVD SiC-t vagy CVI SiC-t egyszerű vagy összetett kialakítású alkatrészek grafitjára alkalmazzák. A bevonat különböző vastagságban és nagyon nagy alkatrészekre is felvihető.

SiC bevonat/bevonatú MOCVD szuszceptor

Jellemzők:
· Kiváló hősokk-állóság
· Kiváló fizikai ütésállóság
· Kiváló vegyszerállóság
· Szuper nagy tisztaságú
· Elérhetőség komplex alakban
· Oxidáló atmoszférában használható

Alkalmazás:

Az alapgrafit anyag tipikus tulajdonságai:

Látszólagos sűrűség:	1,85 g/cm3
Elektromos ellenállás:	11 μΩm
Hajlítószilárdság:	49 MPa (500 kgf/cm2)
Shore keménység:	58
Hamu:	<5 ppm
Hővezető képesség:	116 W/mK (100 kcal/móra-℃)

A szén szuszceptorokat szállítés grafit alkatrészeket kínálunk minden jelenlegi epitaxiális reaktorhoz. Portfóliónk tartalmaz hordószuszceptorokat alkalmazott és LPE egységekhez, palacsinta szuszceptorokat LPE, CSD és Gemini egységekhez, valamint egyszeletes szuszceptorokat alkalmazott és ASM egységekhez. A vezető OEM-ekkel való szoros partnerségek, az anyagszakértelem és a gyártási know-how ötvözésével az SGL az Ön alkalmazásához optimális kialakítást kínálja.