Los tres principales indicadores de selección de grafito semiconductor

La industria de los semiconductores es un sector emergente de ciencia y tecnología que ha atraído gran atención en los últimos años. Cada vez más empresas se han incorporado a este sector, y el grafito se ha convertido en uno de los materiales indispensables para su desarrollo. Los semiconductores requieren la conductividad eléctrica del grafito, ya que cuanto mayor sea su contenido de carbono, mejor será su conductividad. Generalmente, se deben considerar los siguientes indicadores: tamaño de partícula, resistencia al calor y pureza.

El tamaño del grano corresponde a diferentes números de malla, y las especificaciones se expresan en números de malla. El número de malla es la cantidad de orificios, es decir, la cantidad de orificios por pulgada cuadrada. En general, número de malla * apertura (micrómetros) = 15000. Cuanto mayor sea el número de malla del grafito conductor, menor será el tamaño de partícula y mejor será el rendimiento de lubricación, pudiendo utilizarse en la producción de materiales lubricantes. El tamaño de partícula utilizado en la industria de semiconductores debe ser muy fino, ya que facilita la obtención de precisión de procesamiento, alta resistencia a la compresión y pérdidas relativamente pequeñas, especialmente para moldes de sinterización, que requieren alta precisión de procesamiento.

Distribución del tamaño de partícula, como por ejemplo: malla 20, malla 40, malla 80, malla 100, malla 200, malla 320, malla 500, malla 800, malla 1200, malla 2000, malla 3000, malla 5000, malla 8000, malla 12500, el más fino puede ser de 15.000 mallas.

Muchos productos de la industria de los semiconductores necesitan ser calentados continuamente para prolongar la vida útil del dispositivo, lo que requiere que el grafito conductor tenga las siguientes propiedades: excelente fiabilidad y alta resistencia al impacto a altas temperaturas.

Los requisitos para la producción de grafito en la industria de semiconductores son: cuanto mayor sea la pureza, mejor, especialmente en los dispositivos de grafito que se encuentran en contacto entre ambos. Si contienen demasiadas impurezas, contaminarán el material semiconductor. Por lo tanto, es necesario controlar estrictamente la pureza del grafito conductor y, además, someterlo a un tratamiento de grafitización a alta temperatura para minimizar el nivel de gris.

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Fecha de publicación: 8 de junio de 2023
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