L-inqas Prezz għaċ-Ċina Heater tal-Grafita Personalizzat ta' Kwalità Għolja għal Forn tal-Ingott tas-Silikon Polikristallin

Deskrizzjoni Qasira:

Purità < 5ppm
‣ Uniformità tajba tad-doping
‣ Densità għolja u adeżjoni
‣ Reżistenza tajba kontra l-korrużjoni u l-karbonju

‣ Personalizzazzjoni professjonali
‣ Ħin qasir ta' twettiq
‣ Provvista stabbli
‣ Kontroll tal-kwalità u titjib kontinwu

Epitassija ta' GaN fuq Żaffir(RGB/Mini/Mikro LED);Epitassija ta' GaN fuq Sottostrat tas-Si(UVC);Epitassija ta' GaN fuq Sottostrat tas-Si(Apparat Elettroniku);Epitassija ta' Si fuq Sottostrat ta' Si(Ċirkwit integrat);Epitassija tas-SiC fuq is-Sottostrat tas-SiC(Sottostrat);Epitassija ta' InP fuq InP

Ibgħatilna email Niżżel bħala PDF

Dettalji tal-Prodott

Tikketti tal-Prodott

Aħna nkomplu nżidu u nipperfezzjonaw is-soluzzjonijiet u s-servizz tagħna. Fl-istess ħin, noperaw b'mod attiv biex nagħmlu riċerka u ntejbu għall-Orħos Prezz għall-Heater tal-Grafita Personalizzat ta' Kwalità Għolja taċ-Ċina għall-Forn tal-Ingott tas-Silikon Polikristallin. L-intrapriża tagħna kibret malajr fid-daqs u l-popolarità minħabba d-dedikazzjoni assoluta tagħha għall-manifattura ta' kwalità għolja, prezz għoli tal-prodotti u fornitur tal-klijenti meraviljuż.
Inkomplu nżidu u nipperfezzjonaw is-soluzzjonijiet u s-servizz tagħna. Fl-istess ħin, noperaw b'mod attiv biex nagħmlu riċerka u titjib għalForn tat-Tisħin tal-Grafita taċ-Ċina, Qasam Termali tal-Grafita, Biss biex niksbu prodott ta' kwalità tajba biex nilħqu d-domanda tal-klijent, il-prodotti u s-soluzzjonijiet kollha tagħna ġew spezzjonati b'mod strett qabel il-ġarr. Aħna dejjem naħsbu dwar il-mistoqsija min-naħa tal-klijenti, għax tirbaħ int, nirbħu aħna!

2022 MOCVD Susceptor ta' kwalità għolja Ixtri online fiċ-Ċina

Densità Apparenti:	1.85 g/ċm3
Reżistività Elettrika:	11 μΩm
Qawwa Flessurali:	49 MPa (500kgf/ċm2)
Ebusija tax-Xatt:	58
Irmied:	<5ppm
Konduttività Termali:	116 W/mK (100 kcal/mhr-℃)

Wejfer huwa porzjon silikon ħoxnin madwar millimetru li għandu wiċċ ċatt ħafna grazzi għal proċeduri li huma teknikament impenjattivi ħafna. L-użu sussegwenti jiddetermina liema proċedura ta' tkabbir tal-kristalli għandha tintuża. Fil-proċess Czochralski, pereżempju, is-silikon polikristallin jiddewweb u kristall taż-żerriegħa rqiq daqs lapes jiġi mgħaddas fis-silikon imdewweb. Il-kristall taż-żerriegħa mbagħad idur u jinġibed bil-mod 'il fuq. Jirriżulta kolossu tqil ħafna, monokristall. Huwa possibbli li jintgħażlu l-karatteristiċi elettriċi tal-monokristall billi jiżdiedu unitajiet żgħar ta' dopanti ta' purità għolja. Il-kristalli jiġu ddopjati skont l-ispeċifikazzjonijiet tal-klijent u mbagħad jiġu llustrati u maqtugħin f'biċċiet. Wara diversi passi addizzjonali ta' produzzjoni, il-klijent jirċievi l-wejfers speċifikati tiegħu f'ippakkjar speċjali, li jippermetti lill-klijent juża l-wejfer immedjatament fil-linja ta' produzzjoni tiegħu.

Wejfer jeħtieġ li jgħaddi minn diversi stadji qabel ma jkun lest għall-użu f'apparati elettroniċi. Proċess importanti wieħed huwa l-epitassija tas-silikon, fejn il-wejfers jinġarru fuq susċetturi tal-grafita. Il-proprjetajiet u l-kwalità tas-susċetturi għandhom effett kruċjali fuq il-kwalità tas-saff epitassjali tal-wejfer.

Għal fażijiet ta' depożizzjoni ta' film irqiq bħall-epitassija jew il-MOCVD, il-VET tforni tagħmir tal-grafita ultra-pura użat biex isostni sottostrati jew "wejfers". Fil-qalba tal-proċess, dan it-tagħmir, susċetturi tal-epitassija jew pjattaformi satellitari għall-MOCVD, l-ewwel jiġu soġġetti għall-ambjent tad-depożizzjoni:

Temperatura għolja.
Vakwu għoli.
L-użu ta' prekursuri gassużi aggressivi.
Żero kontaminazzjoni, nuqqas ta' tqaxxir.
Reżistenza għal aċidi qawwija waqt operazzjonijiet ta' tindif