Polikristalin Silikon Külçe Fırını için Çin'den En Düşük Fiyatlı Yüksek Kaliteli Özel Tasarım Grafit Isıtıcı

Kısa Açıklama:

Saflık < 5 ppm
‣ İyi doping homojenliği
‣ Yüksek yoğunluk ve yapışma
‣ İyi korozyon önleyici ve karbon direnci

‣ Profesyonel özelleştirme
‣ Kısa teslim süresi
‣ İstikrarlı arz
‣ Kalite kontrolü ve sürekli iyileştirme

Safir üzerinde GaN'nin epitaksisi(RGB/Mini/Mikro LED);Si alt tabaka üzerinde GaN'nin epitaksisi(UVC);Si alt tabaka üzerinde GaN'nin epitaksisi(Elektronik Cihaz);Si alt tabaka üzerinde Si'nin epitaksisi(Entegre devre);SiC Alt Tabaka Üzerine SiC Epitaksisi(Alt tabaka);InP'nin InP üzerine epitaksisi

Bize e-posta gönderin PDF olarak indir

Ürün Detayı

Ürün Etiketleri

Çözümlerimizi ve hizmetlerimizi sürekli olarak geliştiriyor ve mükemmelleştiriyoruz. Aynı zamanda, polikristalin silikon külçe fırını için Çin'den en düşük fiyatlı yüksek kaliteli özelleştirilmiş grafit ısıtıcı için araştırma ve geliştirme çalışmaları yürütüyoruz. İşletmemiz, en yüksek kalitede üretime, uygun fiyatlı ürünlere ve harika müşteri hizmetlerine olan mutlak bağlılığı sayesinde hızla büyüdü ve popülerlik kazandı.
Çözümlerimizi ve hizmetlerimizi sürekli olarak geliştiriyor ve mükemmelleştiriyoruz. Aynı zamanda, araştırma ve iyileştirme çalışmalarımızı aktif olarak sürdürüyoruz.Çin Grafit Isıtma Fırını, Grafit Termal AlanıMüşterilerimizin taleplerini karşılayacak kaliteli ürünler sunmak amacıyla, tüm ürün ve çözümlerimiz sevkiyat öncesinde titizlikle kontrol edilmektedir. Her zaman müşterilerimizin bakış açısını düşünüyoruz, çünkü siz kazanırsanız biz de kazanırız!

2022 yüksek kaliteli MOCVD Susceptor'u Çin'den online satın alın

Görünür Yoğunluk:	1,85 g/cm³
Elektriksel Direnç:	11 μΩm
Eğilme Mukavemeti:	49 MPa (500 kgf/cm2)
Shore Sertliği:	58
Kül:	<5ppm
Isı İletkenliği:	116 W/mK (100 kcal/mhr-℃)

Silikon levha, teknik olarak çok zorlu işlemler sayesinde son derece düz bir yüzeye sahip, yaklaşık 1 milimetre kalınlığında bir silikon dilimidir. Sonraki kullanım amacı, hangi kristal büyütme yönteminin kullanılacağını belirler. Örneğin, Czochralski işleminde, polikristal silikon eritilir ve kalem inceliğinde bir tohum kristali erimiş silikona daldırılır. Tohum kristali daha sonra döndürülür ve yavaşça yukarı çekilir. Sonuç olarak, çok ağır bir dev, bir monokristal elde edilir. Monokristalin elektriksel özellikleri, yüksek saflıkta katkı maddelerinin küçük birimleri eklenerek seçilebilir. Kristaller, müşteri spesifikasyonlarına göre katkılanır, ardından parlatılır ve dilimler halinde kesilir. Çeşitli ek üretim adımlarından sonra, müşteri, üretim hattında hemen kullanmasına olanak tanıyan özel ambalajda belirtilen levhalarını alır.

Bir silikon levhanın elektronik cihazlarda kullanılmaya hazır hale gelmeden önce birkaç aşamadan geçmesi gerekir. Önemli süreçlerden biri, levhaların grafit taşıyıcılar üzerinde taşındığı silikon epitaksi işlemidir. Taşıyıcıların özellikleri ve kalitesi, levhanın epitaksiyel tabakasının kalitesi üzerinde çok önemli bir etkiye sahiptir.

Epitaksi veya MOCVD gibi ince film biriktirme aşamaları için VET, alt tabakaları veya "plakaları" desteklemek için kullanılan ultra saf grafit ekipman tedarik etmektedir. Sürecin özünde yer alan bu ekipman, epitaksi destek platformları veya MOCVD için uydu platformları, öncelikle biriktirme ortamına maruz bırakılır:

Yüksek sıcaklık.
Yüksek vakum.
Aşındırıcı gaz halindeki öncül maddelerin kullanımı.
Sıfır kirlenme, soyulma yok.
Temizlik işlemleri sırasında güçlü asitlere karşı direnç