Поликристалды кремний құйма пешіне арналған Қытайдың жоғары сапалы графит қыздырғышының ең төмен бағасы

Поликристалды кремний құйма пешіне арналған Қытайдағы жоғары сапалы графит қыздырғышының ең төмен бағасы. Таңдаулы сурет.

Қысқаша сипаттама:

Тазалық < 5ppm
‣ Жақсы допинг біркелкілігі
‣ Жоғары тығыздық және адгезия
‣ Жақсы коррозияға қарсы және көміртекке төзімділік

‣ Кәсіби теңшеу
‣ Қысқа мерзім
‣ Тұрақты қуат көзі
‣ Сапаны бақылау және үздіксіз жетілдіру

Сапфирдегі GaN эпитаксиясы(RGB/Мини/Микро жарықдиодты шам);Si субстратындағы GaN эпитаксиясы(УК);Si субстратындағы GaN эпитаксиясы(Электрондық құрылғы);Si субстратындағы Si эпитаксиясы(Интегралдық схема);SiC субстратындағы SiC эпитаксиясы(Субстрат);InP эпитаксиясы InP үстінде

Бізге электрондық пошта жіберіңіз PDF форматында жүктеп алу

Өнімнің егжей-тегжейі

Өнім тегтері

Біз шешімдеріміз бен қызметтерімізді үнемі жетілдіріп отырамыз. Сонымен қатар, біз Қытайда поликристалды кремний құймасы пешіне арналған жоғары сапалы графит қыздырғышын ең төмен бағамен алу үшін зерттеулер мен жетілдіру жұмыстарын белсенді түрде жүргіземіз. Біздің кәсіпорын жоғары сапалы өндіріске, өнімдердің жоғары бағасына және тамаша тұтынушыларға қызмет көрсетуге берілгендігінің арқасында тез арада көлемі мен танымалдылығына ие болды.
Біз шешімдеріміз бен қызметтерімізді үнемі жетілдіріп және жетілдіріп отырамыз. Сонымен қатар, біз зерттеулер мен жетілдірулер жүргізу үшін белсенді жұмыс істейміз.Қытай графитті жылыту пеші, Графит жылу өрісіТек тұтынушының сұранысын қанағаттандыру үшін сапалы өнімге қол жеткізу үшін, біздің барлық өнімдеріміз бен шешімдеріміз жөнелту алдында қатаң тексерілді. Біз әрқашан тұтынушының мәселесін ойлаймыз, себебі сіз жеңесіз, біз жеңеміз!

2022 жоғары сапалы MOCVD Susceptor Қытайда онлайн сатып алыңыз

Көрінетін тығыздық:	1,85 г/см3
Электрлік кедергі:	11 мкОм
Иілу күші:	49 МПа (500 кгс/см2)
Жағалау қаттылығы:	58
Күл:	<5ppm
Жылу өткізгіштік:	116 Вт/мК (100 ккал/мсағ-℃)

Вафли – техникалық тұрғыдан өте күрделі процедуралардың арқасында өте тегіс беті бар, қалыңдығы шамамен 1 миллиметр болатын кремний кесегі. Кейінгі пайдалану қандай кристалды өсіру процедурасын қолдану керектігін анықтайды. Мысалы, Чохральский процесінде поликристалды кремний ерітіліп, қарындаштай жұқа тұқымдық кристал балқытылған кремнийге батырылады. Содан кейін тұқымдық кристалл айналдырылып, баяу жоғары қарай тартылады. Өте ауыр монокристалл пайда болады. Монокристалдың электрлік сипаттамаларын жоғары тазалықтағы қоспалардың шағын бөліктерін қосу арқылы таңдауға болады. Кристалдар тұтынушының талаптарына сәйкес легирленеді, содан кейін жылтыратып, кесектерге кесіледі. Әртүрлі қосымша өндіріс кезеңдерінен кейін тұтынушы көрсетілген вафлилерді арнайы қаптамада алады, бұл тұтынушыға вафлиді өндіріс желісінде бірден пайдалануға мүмкіндік береді.

Пластинаны электронды құрылғыларда пайдалануға дайын болу үшін бірнеше кезеңнен өтуі керек. Маңызды процестердің бірі - кремний эпитаксиясы, онда пластиналар графит сусцепторларында тасымалданады. Сусцепторлардың қасиеттері мен сапасы пластинаның эпитаксиалды қабатының сапасына шешуші әсер етеді.

Эпитаксия немесе MOCVD сияқты жұқа қабықшалы тұндыру фазалары үшін VET субстраттарды немесе «пластиналарды» қолдау үшін қолданылатын ультра таза графит жабдықтарын жеткізеді. Процестің негізінде бұл жабдық, эпитаксия сусцепторлары немесе MOCVD үшін спутниктік платформалар, алдымен тұндыру ортасына ұшырайды:

Жоғары температура.
Жоғары вакуум.
Агрессивті газ тәрізді прекурсорларды қолдану.
Ластану жоқ, қабыршақтанудың болмауы.
Тазалау жұмыстары кезінде күшті қышқылдарға төзімділік