Поликристалл цахиурын ембүү зууханд зориулсан Хятадын өндөр чанартай захиалгат графит халаагуурын хамгийн хямд үнэ

Поликристалл цахиурын ембүү зууханд зориулсан Хятад улсын өндөр чанартай захиалгат графит халаагуурын хамгийн хямд үнэ Онцлох зураг

Товч тайлбар:

Цэвэр байдал < 5ppm
‣ Допингийн сайн жигд байдал
‣ Өндөр нягтрал ба наалдац
‣ Зэврэлтээс хамгаалах болон нүүрстөрөгчийн эсэргүүцэл сайтай

‣ Мэргэжлийн тохируулга
‣ Богино хугацаа
‣ Тогтвортой хангамж
‣ Чанарын хяналт ба тасралтгүй сайжруулалт

Сапфир дээрх GaN-ийн эпитакси(RGB/Мини/Микро LED);Si субстрат дээрх GaN-ийн эпитакси(Хэт ягаан туяаны);Si субстрат дээрх GaN-ийн эпитакси(Цахим төхөөрөмж);Si-ийн Si субстрат дээрх эпитакси(Нэгдсэн хэлхээ);SiC-ийн SiC субстрат дээрх эпитакси(Суурь);InP дээрх InP-ийн эпитакси

Бидэнд имэйл илгээх PDF хэлбэрээр татаж авах

Бүтээгдэхүүний дэлгэрэнгүй мэдээлэл

Бүтээгдэхүүний шошго

Бид шийдэл, үйлчилгээгээ тасралтгүй сайжруулж, сайжруулсаар байна. Үүний зэрэгцээ бид Хятадад зориулсан өндөр чанартай захиалгат графит халаагуурыг хамгийн хямд үнээр авахын тулд судалгаа, сайжруулалт хийхээр идэвхтэй ажиллаж байна. Манай компани нь өндөр чанартай үйлдвэрлэл, өндөр үнэтэй бүтээгдэхүүн, гайхалтай үйлчлүүлэгчдэд үйлчлэх чиглэлээр туйлын тууштай байдгаараа хурдацтай өсч, нэр хүндээ өсгөсөн.
Бид шийдэл болон үйлчилгээгээ тасралтгүй сайжруулж, сайжруулсаар байна. Үүний зэрэгцээ бид судалгаа, сайжруулалт хийхийн тулд идэвхтэй үйл ажиллагаа явуулдаг.Хятад графит халаалтын зуух, Графитын дулааны талбар, Зөвхөн хэрэглэгчийн эрэлт хэрэгцээг хангахын тулд чанартай бүтээгдэхүүн үйлдвэрлэхийн тулд манай бүх бүтээгдэхүүн, шийдлүүдийг тээвэрлэлтийн өмнө нарийн шалгадаг. Бид үргэлж хэрэглэгчийн талд асуулт тавьдаг, учир нь та хожвол бид хожно!

2022 оны өндөр чанартай MOCVD Susceptor Хятадад онлайнаар худалдаж аваарай

Харагдах нягтрал:	1.85 г/см3
Цахилгаан эсэргүүцэл:	11 μΩм
Гулзайлтын хүч:	49 МПа (500кгф/см2)
Эргийн хатуулаг:	58
Үнс:	<5ppm
Дулаан дамжуулалт:	116 Вт/мК (100 ккал/мц-℃)

Вафли гэдэг нь ойролцоогоор 1 миллиметр зузаантай, техникийн хувьд маш хүнд хэцүү процедурын ачаар маш тэгш гадаргуутай цахиурын зүсмэл юм. Дараагийн хэрэглээ нь аль талст ургуулах аргыг ашиглах ёстойг тодорхойлдог. Жишээлбэл, Чохралскийн процесст поликристал цахиурыг хайлуулж, харандаа шиг нимгэн үрийн талстыг хайлсан цахиурт дүрнэ. Дараа нь үрийн талстыг эргүүлж, аажмаар дээш татна. Маш хүнд аварга том монокристал үүсдэг. Өндөр цэвэршилттэй хольцын жижиг хэсгүүдийг нэмж монокристалын цахилгаан шинж чанарыг сонгох боломжтой. Талстуудыг хэрэглэгчийн техникийн шаардлагын дагуу хольцжуулж, дараа нь өнгөлж, зүсмэл болгон хуваадаг. Үйлдвэрлэлийн янз бүрийн нэмэлт алхмуудын дараа хэрэглэгч заасан вафлигаа тусгай савлагаанд хүлээн авдаг бөгөөд энэ нь хэрэглэгч вафлигаа үйлдвэрлэлийн шугамдаа шууд ашиглах боломжийг олгодог.

Вафер нь электрон төхөөрөмжид ашиглахад бэлэн болохоосоо өмнө хэд хэдэн үе шатыг туулах шаардлагатай. Нэг чухал процесс бол цахиурын эпитакси бөгөөд ваферууд нь бал чулуун сусцепторууд дээр зөөгддөг. Сусцепторуудын шинж чанар, чанар нь ваферын эпитаксиаль давхаргын чанарт чухал нөлөө үзүүлдэг.

Эпитакси эсвэл MOCVD зэрэг нимгэн хальсан тунадасжуулалтын үе шатуудад VET нь субстрат буюу "вафер"-ийг дэмжихэд ашигладаг хэт цэвэр графит тоног төхөөрөмжийг нийлүүлдэг. Үйл явцын гол цөм нь энэхүү тоног төхөөрөмж, эпитакси сусцепторууд эсвэл MOCVD-ийн хиймэл дагуулын платформуудыг эхлээд тунадасжуулалтын орчинд оруулдаг.

Өндөр температур.
Өндөр вакуум.
Түрэмгий хийн прекурсоруудыг ашиглах.
Бохирдолгүй, хальслахгүй.
Цэвэрлэгээний ажиллагааны үед хүчтэй хүчилд тэсвэртэй байх