Cludwyr Wafer MOCVD graffit cotio SiC, Susceptorau Graffit ar gyferEpitacsi SiC,
Mae carbon yn cyflenwi atalyddion, Susceptorau epitacsi graffit, Swbstradau cymorth graffit, Amddiffynnydd MOCVD, Epitacsi SiC, Susceptors Wafer,

Mae manteision arbennig ein susceptorau graffit wedi'u gorchuddio â SiC yn cynnwys purdeb eithriadol o uchel, cotio homogenaidd a bywyd gwasanaeth rhagorol. Mae ganddynt hefyd briodweddau ymwrthedd cemegol a sefydlogrwydd thermol uchel.

Mae cotio SiC o swbstrad graffit ar gyfer cymwysiadau lled-ddargludyddion yn cynhyrchu rhan â phurdeb uwch a gwrthiant i awyrgylch ocsideiddiol.
Mae CVD SiC neu CVI SiC yn cael ei roi ar graffit rhannau dylunio syml neu gymhleth. Gellir rhoi cotio mewn gwahanol drwch ac ar rannau mawr iawn.

Nodweddion:
· Gwrthiant Sioc Thermol Rhagorol
· Gwrthiant Sioc Corfforol Rhagorol
· Gwrthiant Cemegol Rhagorol
· Purdeb Uchel Iawn
· Argaeledd mewn Siâp Cymhleth
· Gellir ei ddefnyddio o dan Atmosffer Ocsideiddio

Cais:

Priodweddau Nodweddiadol Deunydd Graffit Sylfaenol:

Mae carbon yn cyflenwi atalyddiona chydrannau graffit ar gyfer yr holl adweithyddion epitacsi cyfredol. Mae ein portffolio yn cynnwys susceptorau casgenni ar gyfer unedau cymhwysol ac LPE, susceptorau crempog ar gyfer unedau LPE, CSD, a Gemini, a susceptorau wafer sengl ar gyfer unedau cymhwysol ac ASM. Drwy gyfuno partneriaethau cryf â gwneuthurwyr gwreiddiol blaenllaw, arbenigedd deunyddiau a gwybodaeth weithgynhyrchu, mae SGL yn cynnig y dyluniad gorau posibl ar gyfer eich cymhwysiad.