ဆီလီကွန်အခြေခံ GaN Epitaxy

ကုန်ပစ္စည်းအကြောင်းအရာ

ကျွန်ုပ်တို့၏ကုမ္ပဏီသည် ဂရပ်ဖိုက်၊ ကြွေထည်များနှင့် အခြားပစ္စည်းများ၏မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ CVD နည်းလမ်းဖြင့် SiC coating process ဝန်ဆောင်မှုများကို ဆောင်ရွက်ပေးသည်၊ သို့မှသာ ကာဗွန်နှင့် ဆီလီကွန်ပါရှိသော အထူးဓာတ်ငွေ့များကို မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော SiC မော်လီကျူးများ၊ coated ပစ္စည်းများ၏မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ မော်လီကျူးများရရှိစေရန်၊ SIC အကာအကွယ်အလွှာကို ဖြစ်ပေါ်စေပါသည်။

အဓိကအင်္ဂါရပ်များ-

1. မြင့်မားသောအပူချိန် oxidation resistance:

အပူချိန် 1600 ဒီဂရီစင်တီဂရိတ်အထိ မြင့်မားနေချိန်တွင် ဓာတ်တိုးမှု ခုခံမှုမှာ အလွန်ကောင်းမွန်ပါသည်။

2. မြင့်မားသောသန့်ရှင်းမှု : မြင့်မားသောအပူချိန် ကလိုရင်းဓာတ်အခြေအနေအောက်တွင် ဓာတုအငွေ့ထွက်မှုဖြင့် ပြုလုပ်သည်။

3. တိုက်စားခံနိုင်ရည်- မြင့်မားသော မာကျောမှု၊ ကျစ်လစ်သော မျက်နှာပြင်၊ ကောင်းမွန်သော အမှုန်များ။

4. သံချေးတက်ခြင်းကိုခံနိုင်ရည်- အက်ဆစ်၊ အယ်ကာလီ၊ ဆားနှင့် အော်ဂဲနစ်ဓာတ်ပစ္စည်းများ။

CVD-SIC Coating ၏ အဓိက Specifications