Эпитаксия GaN на основе кремния

Описание продукта

Наша компания предоставляет услуги по нанесению покрытий SiC методом химического осаждения из газовой фазы на поверхность графита, керамики и других материалов, при котором специальные газы, содержащие углерод и кремний, реагируют при высокой температуре, в результате чего получаются молекулы SiC высокой чистоты, которые осаждаются на поверхности покрываемых материалов, образуя защитный слой SIC.

Основные характеристики:

1. Стойкость к высокотемпературному окислению:

стойкость к окислению остается очень хорошей даже при температуре 1600 °C.

2. Высокая чистота: производится методом химического осаждения из паровой фазы в условиях высокотемпературного хлорирования.

3. Эрозионная стойкость: высокая твердость, плотная поверхность, мелкие частицы.

4. Коррозионная стойкость: кислоты, щелочи, соли и органические реагенты.

Основные характеристики покрытия CVD-SIC