Produktová rada spoločnosti VET Energy sa neobmedzuje len na kremíkové doštičky. Ponúkame aj širokú škálu polovodičových substrátových materiálov vrátane SiC substrátu, SOI doštičky, SiN substrátu, Epi doštičky atď., ako aj nové polovodičové materiály so širokým zakázaným pásmom, ako je oxid gália Ga2O3 a AlN doštička. Tieto produkty dokážu splniť aplikačné potreby rôznych zákazníkov vo výkonovej elektronike, rádiofrekvencii, senzorike a ďalších oblastiach.
Oblasti použitia:
•Integrované obvody:Ako základný materiál na výrobu integrovaných obvodov sa kremíkové doštičky typu P široko používajú v rôznych logických obvodoch, pamätiach atď.
•Napájacie zariadenia:Kremíkové doštičky typu P sa dajú použiť na výrobu výkonových zariadení, ako sú výkonové tranzistory a diódy.
•Senzory:Kremíkové doštičky typu P sa dajú použiť na výrobu rôznych typov senzorov, ako sú tlakové senzory, teplotné senzory atď.
•Solárne články:Kremíkové doštičky typu P sú dôležitou súčasťou solárnych článkov.
Spoločnosť VET Energy poskytuje zákazníkom riešenia s doštičkami na mieru a dokáže prispôsobiť doštičky s rôznou rezistivitou, rôznym obsahom kyslíka, rôznou hrúbkou a ďalšími špecifikáciami podľa špecifických potrieb zákazníkov. Okrem toho poskytujeme aj profesionálnu technickú podporu a popredajný servis, aby sme zákazníkom pomohli vyriešiť rôzne problémy, s ktorými sa stretávajú vo výrobnom procese.
ŠPECIFIKÁCIE PLÁTKOV
*n-Pm=typ n Pm-trieda, n-Ps=typ n Ps-trieda, Sl=poloizolačný
| Položka | 8-palcový | 6-palcový | 4-palcový | ||
| nP | n-Pm | n-P | SI | SI | |
| TTV (GBIR) | ≤6 μm | ≤6 μm | |||
| Bow (GF3YFCD) - Absolútna hodnota | ≤15 μm | ≤15 μm | ≤25 μm | ≤15 μm | |
| Warp (GF3YFER) | ≤25 μm | ≤25 μm | ≤40 μm | ≤25 μm | |
| LTV (SBIR) - 10 mm x 10 mm | <2 μm | ||||
| Okraj oblátky | Skosenie | ||||
POVRCHOVÁ ÚPRAVA
*n-Pm=typ n Pm-trieda, n-Ps=typ n Ps-trieda, Sl=poloizolačný
| Položka | 8-palcový | 6-palcový | 4-palcový | ||
| nP | n-Pm | n-P | SI | SI | |
| Povrchová úprava | Obojstranná optická leštiaca metóda, Si-Face CMP | ||||
| Drsnosť povrchu | (10um x 10um) Si-FaceRa ≤ 0,2 nm | (5umx5um) Si-Face Ra ≤ 0,2 nm | |||
| Okrajové triesky | Žiadne povolené (dĺžka a šírka ≥ 0,5 mm) | ||||
| Odsadenia | Žiadne povolené | ||||
| Škrabance (Si-Face) | Množstvo ≤ 5, Kumulatívne | Množstvo ≤ 5, Kumulatívne | Množstvo ≤ 5, Kumulatívne | ||
| Trhliny | Žiadne povolené | ||||
| Vylúčenie okrajov | 3 mm | ||||
-
Solárny grafitový čln pre Pecvd
-
Grafitový rotor pre vákuové čerpadlo
-
Vodou chladený 100KW vodíkový palivový článok pre...
-
Generátor vodíkových palivových článkov Pem Drone s vodíkovým...
-
Nízkonákladový vodíkový palivový dron SOFC vodíkový gén...
-
Spotrebný materiál pre polovodičové zariadenia, oxid hlinitý...