Požiadavky polovodičového priemyslu na požiadavky na grafitový materiál sú obzvlášť vysoké, jemná veľkosť častíc grafitu má vysokú presnosť, odolnosť voči vysokej teplote, vysokú pevnosť, malé straty a ďalšie výhody, ako napríklad: formy zo spekaného grafitu.Pretože sa vyžaduje, aby grafitové zariadenia používané v polovodičovom priemysle (vrátane ohrievačov a ich spekaných lisovníc) vydržali opakované procesy zahrievania a chladenia, aby sa predĺžila životnosť grafitových zariadení, zvyčajne sa vyžaduje, aby použité grafitové materiály mali stabilný výkon. a tepelne odolná nárazová funkcia.
01 Grafitové príslušenstvo pre rast polovodičových kryštálov
Všetky procesy používané na pestovanie polovodičových kryštálov fungujú vo vysokoteplotnom a korozívnom prostredí.Horúca zóna pece na rast kryštálov je zvyčajne vybavená tepelne odolnými a korózii odolnými vysoko čistými grafitovými komponentmi, ako je ohrievač, téglik, izolačný valec, vodiaci valec, elektróda, držiak téglika, matica elektródy atď.
Dokážeme vyrobiť všetky grafitové diely zariadení na výrobu kryštálov, ktoré je možné dodať jednotlivo alebo v súpravách, prípadne grafitové diely na mieru rôznych veľkostí podľa požiadaviek zákazníka.Veľkosť výrobkov je možné merať na mieste a obsah popola v hotových výrobkoch môže byť nižšíako 5 str./min.
02 Grafitové príslušenstvo pre epitaxiu polovodičov
Epitaxný proces sa týka rastu vrstvy monokryštálového materiálu s rovnakým usporiadaním mriežky ako substrát na monokryštálovom substráte.V epitaxnom procese je plátok naložený na grafitový disk.Výkon a kvalita grafitového disku hrá zásadnú úlohu v kvalite epitaxnej vrstvy plátku.V oblasti epitaxnej výroby je potrebných veľa grafitu ultra vysokej čistoty a grafitovej bázy vysokej čistoty s povlakom SIC.
Grafitová základňa našej spoločnosti pre polovodičovú epitaxiu má širokú škálu aplikácií, môže zodpovedať väčšine bežne používaných zariadení v priemysle a má vysokú čistotu, rovnomerný povlak, vynikajúcu životnosť a vysokú chemickú odolnosť a tepelnú stabilitu.
03 Grafitové príslušenstvo pre iónovú implantáciu
Iónová implantácia označuje proces urýchľovania plazmového lúča bóru, fosforu a arzénu na určitú energiu a jeho následné vstreknutie do povrchovej vrstvy doštičkového materiálu, aby sa zmenili materiálové vlastnosti povrchovej vrstvy.Komponenty zariadenia na implantáciu iónov musia byť vyrobené z vysoko čistých materiálov s vynikajúcou tepelnou odolnosťou, tepelnou vodivosťou, menšou koróziou spôsobenou iónovým lúčom a nízkym obsahom nečistôt.Vysoko čistý grafit spĺňa aplikačné požiadavky a môže byť použitý pre letovú trubicu, rôzne štrbiny, elektródy, kryty elektród, vedenia, ukončovače lúčov atď. zariadení na implantáciu iónov.
Môžeme poskytnúť nielen grafitový tieniaci kryt pre rôzne stroje na implantáciu iónov, ale tiež poskytnúť vysoko čisté grafitové elektródy a iónové zdroje s vysokou odolnosťou proti korózii rôznych špecifikácií.Použiteľné modely: Eaton, Azcelis, Quatum, Varian, Nissin, AMAT, LAM a ďalšie vybavenie.Okrem toho môžeme poskytnúť aj zodpovedajúce keramické, volfrámové, molybdénové, hliníkové výrobky a potiahnuté diely.
04 Grafitové izolačné materiály a iné
Tepelnoizolačné materiály používané v zariadeniach na výrobu polovodičov zahŕňajú grafitovú tvrdú plsť, mäkkú plsť, grafitovú fóliu, grafitový papier a grafitové lano.
Všetky naše suroviny sú dovážaný grafit, ktorý je možné rezať podľa konkrétnej veľkosti požiadaviek zákazníka alebo predávať ako celok.
Tácka uhlík-uhlík sa používa ako nosič pre filmové poťahovanie vo výrobnom procese solárnych monokryštalických kremíkových a polykryštalických kremíkových článkov.Princíp fungovania je: vložte kremíkový čip do podnosu CFC a pošlite ho do rúry pece na spracovanie filmového povlaku.
