Àwọn Àwọ̀ CVD fún Ìṣiṣẹ́ Semiconductor Tó Tẹ̀síwájú

A ṣe àgbékalẹ̀ rẹ̀ fún àwọn àyíká ìṣelọ́pọ́ semiconductor pàtàkì, àwọn ìbòrí wa tí a fi ń mú kí ìgbóná ooru jáde (CVD) Silicon Carbide (SiC), Tantalum Carbide (TaC), àti Pyrolytic Carbon (PyC) ń fúnni ní àìlera kẹ́míkà tó tayọ, ìdúróṣinṣin ooru tó ga jùlọ, àti ìwẹ̀nùmọ́ tó ga jùlọ (< 5 ppm). A ṣe é láti dáàbò bo graphite àti àwọn ohun èlò seramiki tó ga jùlọ kúrò nínú plasma tó lágbára, àwọn gáàsì ìṣiṣẹ́ tó ń ṣe àtúnṣe, àti ìyípo ooru tó ga, àwọn ìbòrí wa tó ti pẹ́ ń dín ìṣẹ̀dá pàǹtí kù, wọ́n sì ń mú kí àkókò ìgbóná náà gùn sí i ní pàtàkì.Silikoni/SiC Epitaxy, MOCVD, Plasma Etching, àti Monocrystal Growthawọn ohun elo.