Pala per a manipolazione di wafer in carburo di siliciu durevule

Descrizzione corta:

vet-china furnisce una eccellente pala per a manipolazione di wafer in carburo di siliciu durevule, chì combina alte prestazioni è un design innovativu per assicurà una manipolazione efficiente è sicura di i wafer. Cù a so durabilità è precisione, a pala per a manipolazione di wafer in carburo di siliciu di vet-china hè un strumentu indispensabile in u vostru prucessu di fabricazione di semiconduttori, migliurendu l'efficienza di a produzzione è riducendu u risicu di detriti.


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vet-china assicura chì ogni DurablePala per a manipolazione di wafer in carburo di siliciuHà prestazioni è durabilità eccellenti. Questa pala per a manipulazione di wafer in carburo di siliciu utilizza prucessi di fabricazione avanzati per assicurà chì a so stabilità strutturale è a so funzionalità restinu in ambienti à alta temperatura è corrosione chimica. Stu cuncepimentu innovativu furnisce un eccellente supportu per a manipulazione di wafer di semiconduttori, in particulare per operazioni automatizate di alta precisione.

Pala a sbalzo in SiChè un cumpunente specializatu utilizatu in l'apparecchiature di fabricazione di semiconduttori cum'è u fornu d'ossidazione, u fornu di diffusione è u fornu di ricottura, l'usu principale hè per u caricamentu è u scaricamentu di wafer, supporta è trasporta wafer durante i prucessi à alta temperatura.

Strutture cumunidiSiCcantileverpaddle: Una struttura à cantilever, fissa à una estremità è libera à l'altra, hà tipicamente un disignu pianu è simile à una pagaia.

TravagliendupprincipiudiSiCcantileverpaddle:

A pala a cantilever pò spustassi in su è in giù o avanti è indietro in a camera di u fornu, pò esse aduprata per spustà i wafers da e zone di carica à e zone di trasfurmazione, o fora di e zone di trasfurmazione, sustenendu è stabilizendu i wafers durante a trasfurmazione à alta temperatura.

Proprietà fisiche di u carburu di siliciu ricristallizatu

Pruprietà

Valore Tipicu

Temperatura di travagliu (°C)

1600°C (cù ossigenu), 1700°C (ambiente riducente)

cuntenutu di SiC

> 99,96%

Cuntenutu Si gratuitu

< 0,1%

Densità apparente

2,60-2,70 g/cm3

Porosità apparente

< 16%

Forza di compressione

> 600 MPa

Resistenza à a flessione à fretu

80-90 MPa (20°C)

Resistenza à a flessione à caldu

90-100 MPa (1400°C)

Espansione termica @1500°C

4.70 10-6/°C

Cunduttività termica @1200°C

23 W/m•K

Modulu elasticu

240 GPa

Resistenza à i shock termichi

Estremamente bonu

Pala à sbalzu9
Pala a sbalzo8
生产设备1
公司客户1

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