Pembawa Wafer MOCVD grafit salutan SiC, Suseptor Grafit untuk Epitaksi SiC

Penerangan Ringkas:

Salutan SiC bagi substrat Grafit untuk aplikasi Semikonduktor menghasilkan bahagian dengan ketulenan unggul dan rintangan terhadap atmosfera pengoksidaan. CVD SiC atau CVI SiC digunakan pada Grafit bagi bahagian reka bentuk yang mudah atau kompleks. Salutan boleh digunakan dalam pelbagai ketebalan dan pada bahagian yang sangat besar.

Tempat Asal:Zhejiang, China (Tanah Besar)

Nombor Model:Nombor Model:

Komposisi Kimia:Grafit bersalut SiC

Kekuatan lenturan:470Mpa

Kekonduksian terma:300 W/mK

Kualiti:Sempurna

Fungsi:CVD-SiC

Permohonan:Semikonduktor / Fotovoltaik

Ketumpatan:3.21 g/cc

Pengembangan haba:4 10-6/K

Abu: <5ppm

Contoh:Tersedia

Kod HS:6903100000

Hantar emel kepada kami Muat turun sebagai PDF

Butiran Produk

Tag Produk

Pembawa Wafer MOCVD grafit salutan SiC, Suseptor Grafit untukEpitaksi SiC,
Karbon membekalkan suseptor, Suseptor epitaksi grafit, Substrat sokongan grafit, Suseptor MOCVD, Epitaksi SiC, Suseptor Wafer,

Kelebihan istimewa susceptor grafit bersalut SiC kami termasuk ketulenan yang sangat tinggi, salutan homogen dan jangka hayat yang sangat baik. Ia juga mempunyai rintangan kimia dan sifat kestabilan terma yang tinggi.

Salutan SiC bagi substrat Grafit untuk aplikasi Semikonduktor menghasilkan bahagian dengan ketulenan unggul dan rintangan terhadap atmosfera pengoksidaan.
CVD SiC atau CVI SiC digunakan pada grafit bahagian reka bentuk yang mudah atau kompleks. Salutan boleh digunakan dalam pelbagai ketebalan dan pada bahagian yang sangat besar.

Suseptor MOCVD bersalut/bersalut SiC

Ciri-ciri:
· Rintangan Kejutan Terma yang Cemerlang
· Rintangan Kejutan Fizikal yang Cemerlang
· Rintangan Kimia yang Cemerlang
· Ketulenan Super Tinggi
· Ketersediaan dalam Bentuk Kompleks
· Boleh digunakan di bawah Atmosfera Pengoksidaan

Permohonan:

Sifat-sifat Khas Bahan Grafit Asas:

Ketumpatan Rupa:	1.85 g/cm3
Kerintangan Elektrik:	11 μΩm
Kekuatan Fleksibel:	49 MPa (500kgf/cm2)
Kekerasan Pantai:	58
Abu:	<5ppm
Kekonduksian Terma:	116 W/mK (100 kcal/mhr-℃)

Karbon membekalkan suseptordan komponen grafit untuk semua reaktor epitaksi semasa. Portfolio kami termasuk susceptor tong untuk unit gunaan dan LPE, susceptor lempeng untuk unit LPE, CSD dan Gemini, dan susceptor wafer tunggal untuk unit gunaan dan ASM. Dengan menggabungkan perkongsian kukuh dengan OEM terkemuka, kepakaran bahan dan pengetahuan pembuatan, SGL menawarkan reka bentuk optimum untuk aplikasi anda.