ஆய்வுச் 사례: N-வகை சிலிக்கான் வளர்ச்சியில் 32-அங்குல ஒற்றைப்படிக வெப்பப் புலங்களுக்கான உயர் தூய்மை கிராஃபைட் கூறுகள்

ஆய்வுச் 사례: N-வகை சிலிக்கான் வளர்ச்சியில் 32-அங்குல ஒற்றைப்படிக வெப்பப் புலங்களுக்கான உயர் தூய்மை கிராஃபைட் கூறுகள்

ஆசிரியர்:டாக்டர் ஸ்டீவன் கியூ, VET எனர்ஜியின் மூத்த குறைக்கடத்திப் பொருட்கள் பொறியாளர் மற்றும் தொழில்நுட்ப இயக்குநர்

வெளியிடப்பட்டது:ஆகஸ்ட் 2026 | தொழில்நுட்ப கள அறிக்கை மற்றும் பொறியியல் பகுப்பாய்வு

நிர்வாகச் சுருக்கம் மற்றும் திட்ட மேலோட்டம்

  • தொழில்:சூரிய ஒளிமின்னழுத்தம் மற்றும் குறைக்கடத்தி சிலிக்கான் வேஃபர் உற்பத்தி
  • செயல்முறை:சோக்ரால்ஸ்கி (CZ) N-வகை (TOPCon/HJT) ஒற்றைப்படிக இங்காட் இழுத்தல்
  • உபகரணங்கள்:32-அங்குல பெரிய விட்டம் கொண்ட வெப்பப் புல உலைகள் (50 அலகுகள் மதிப்பீடு செய்யப்பட்டன)
  • தீர்வு:ஆழமான ஹாலஜன் சுத்திகரிக்கப்பட்ட ஐசோஸ்டேடிக் கிராஃபைட் கூறுகள் (சாம்பல் ≤ 2-5 ppm) + CVD SiC பூச்சு
  • அளவிடப்பட்ட தாக்கம்:சிறுபான்மை கடத்தியின் ஆயுட்காலம் <100 μs இலிருந்து >380 μs ஆக அதிகரிக்கப்பட்டது; உலோகக் கட்டியின் விளைச்சல் +18%; வெப்பப் புலத்தின் ஆயுட்காலம் +30%.

அறிமுகம்: உயர் செயல்திறன் N-வகை சிலிக்கான் வளர்ச்சியில் 32-அங்குல வெப்பப் புலச் சவால்

ஒளிமின்னழுத்தத் தொழில், P-வகை PERC-இலிருந்து N-வகை TOPCon மற்றும் ஹெட்டரோஜங்ஷன் (HJT) சூரிய மின்கலங்களுக்கு வேகமாக மாறிவருவதால், அதிக தூய்மையான சிலிக்கான் தகடுகளுக்கான தேவை பன்மடங்கு அதிகரித்துள்ளது. N-வகை சிலிக்கான் அடிமூலக்கூறுகளுக்கு மிக அதிக சிறுபான்மை மின்னூக்கி ஆயுட்காலம் (பொதுவாக >300 μs) மற்றும் ஏறக்குறைய பூஜ்ஜிய அளவிலான இடைநிலை உலோக அசுத்தக் கலப்படம் தேவைப்படுகிறது.

உற்பத்தித்திறனை அதிகரிப்பதற்காக, சிலிக்கான் வேஃபர் உற்பத்தியாளர்கள் மூசைகளின் அளவை 32 அங்குலம் மற்றும் அதற்கும் மேலாக விரிவுபடுத்துகின்றனர். இருப்பினும், 32-அங்குல வெப்பப் புலத்தில் 1,450°C-க்கு அதிகமான வெப்பநிலையில் செயல்படுவது கடுமையான பொறியியல் சவால்களை ஏற்படுத்துகிறது:

  1. வெப்பச் சிதைவு மற்றும் சமச்சீரற்ற தன்மை:கடுமையான வெப்ப வேறுபாடுகள், வழக்கமான கிராஃபைட் வெப்பமூட்டிகள் மற்றும் பீடங்களில் கட்டமைப்புச் சிதைவையும் விரிசல்களையும் ஏற்படுத்துகின்றன.
  2. ஆவியாகும் உலோக மாசுபாடு:வழக்கமான கிராஃபைட்டினுள் உள்ள மிகச்சிறிய அசுத்தத் தனிமங்களான (Fe, Ni, Cu, V) ஆகியவை, நீண்ட நேரம் படிகத்தை இழுக்கும்போது ஆவியாகி, உருகிய சிலிக்கானுக்குள் நேரடியாக இடம்பெயர்ந்து, சிறுபான்மை மின்னூக்கிகளின் ஆயுட்காலத்தில் கடுமையான சரிவை ஏற்படுத்துகின்றன.

பொறியியல் தீர்வு: அதிதூய்மையாக்கப்பட்ட ஐசோஸ்டேடிக் கிராஃபைட் மற்றும் CVD SiC கவசம்

இந்த தொழில்நுட்பத் தடைகளைச் சமாளிக்க, VeTek செமிகண்டக்டர் நிறுவனம், உயர்-வெப்பநிலை ஹாலஜன் சுத்திகரிப்புக்கு உட்படுத்தப்பட்ட உயர்-அடர்த்தி ஐசோஸ்டேடிக் கிராஃபைட் மற்றும் பாதுகாப்பு CVD சிலிக்கான் கார்பைடு (SiC) பூச்சுகளைக் கொண்ட ஒரு விரிவான பொருள் மேம்படுத்தலை, அதன் முழு 32-அங்குல வெப்பப் புல அமைப்பிலும் செயல்படுத்தியது.

1. ஆழமான ஹாலஜன் சுத்திகரிப்பு (சாம்பல் உள்ளடக்கம் ≤ 2-5 ppm)

வழக்கமான தொழில்துறை கிராஃபைட்டில் 50 ppm முதல் 200 ppm வரையிலான மொத்த சாம்பல் உள்ளடக்கம் உள்ளது. வெற்றிடத்தின் கீழ் 1,450°C வெப்பநிலையில், இந்த நுண் தனிமங்கள் ஆவியாகின்றன. எங்களின் தனியுரிம உயர்-வெப்பநிலை ஹாலஜன் வாயு சுத்திகரிப்பு செயல்முறையானது, 2,400°C-க்கு மேற்பட்ட வெப்பநிலையில் உலோக அசுத்தங்களை ஆவியாகும் ஹாலஜன் சேர்மங்களாக (குளோரைடுகள்/ஃபுளோரைடுகள்) மாற்றுகிறது.

  • ஒளிர்வு வெளியேற்ற நிறை நிறமாலையியல் (GDMS) சோதனைமொத்த உலோக அசுத்தங்கள் (Fe, Cr, Ni, Cu, V) 0.5 ppm-க்கும் குறைவாகக் குறைக்கப்பட்டு, ஒட்டுமொத்த சாம்பல் உள்ளடக்கம் ≤ 2 ppm அடையப்படுவதை இது சரிபார்க்கிறது.
  • முடிவு:120 மணி நேரத்திற்கும் மேலான தொடர்ச்சியான இழுத்தல் சுழற்சிகளின் போது, ​​பின்னணி உலோக வாயு வெளியேற்றத்தை நீக்கி, உருகிய சிலிக்கான் குளத்தை மாசுபடுவதிலிருந்து பாதுகாக்கிறது.

2. வெப்ப நிலைத்தன்மைக்கான உயர் அடர்த்தி ஐசோஸ்டேடிக் கிராஃபைட் கட்டமைப்பு

கிராஃபைட் வெப்பமூட்டி, மூசை ஏற்பி, மற்றும் காப்பு உருளை உள்ளிட்ட கூறுகள், உயர் அடர்த்தி (1.85 கி/செ.மீ³), நுண்ணிய துகள் (துகள் அளவு <10 μm) கொண்ட ஐசோஸ்டேடிக் கிராஃபைட்டிலிருந்து இயந்திரத்தால் செதுக்கப்படுகின்றன. ஐசோஸ்டேடிக் அழுத்தம், சீரான திசைசாரா வெப்ப விரிவாக்கத்தை (CTE) உறுதிசெய்து, தொடர்ச்சியான வெப்பச் சுழற்சிகளின் கீழ் ஏற்படும் குறிப்பிட்ட இடத்திலான வெப்ப அழுத்தம், உருக்குலைதல் மற்றும் இயந்திர விரிசல்களைத் தடுக்கிறது.

3. பாதுகாப்பு CVD சிலிக்கான் கார்பைடு (SiC) பூச்சு

சிலிக்கான் ஆவி மற்றும் அரிக்கும் சுத்திகரிப்பு வாயுக்களுக்கு வெளிப்படும் முக்கிய பாகங்கள், 50–80 μm அடர்த்தியான இரசாயன ஆவிப் படிவு (CVD) சிலிக்கான் கார்பைடு (SiC) அடுக்கால் பூசப்படுகின்றன.

  • அரிப்புத் தடுப்பு:ஆவியாகும் சிலிக்கான் ஆவிக்கும் (SiO) கிராஃபைட் அடி மூலக்கூறுக்கும் இடையே நிகழும் நேரடி வேதி வினையை (SiO + 2C → SiC + CO) தடுத்து, மேற்பரப்பு அரிப்பு மற்றும் கார்பன் தூசி உருவாதலை நீக்குகிறது.
  • வடிவியல் துல்லியம்:30% வரை நீண்ட சேவை இடைவெளிகளில் துல்லியமான வெப்பப் புல வடிவவியலைப் பராமரிக்கிறது.

அளவிடப்பட்ட செயல்திறன் தரவு மற்றும் கள சோதனை சரிபார்ப்பு

முதல் நிலை TOPCon சிலிக்கான் வேஃபர் உற்பத்தி ஆலையில், 50 உற்பத்தி அளவிலான 32-அங்குல CZ உலைகளில் 6 மாத கால ஒப்பீட்டுக் களச் சோதனை ஒன்று நடத்தப்பட்டது. வழக்கமான கிராஃபைட் பாகங்களை VeTek Semiconductor-இன் தூய்மைப்படுத்தப்பட்ட வெப்பப் புலத் தீர்வுடன் ஒப்பிடும் செயல்திறன் அளவுகோல் கீழே கொடுக்கப்பட்டுள்ளது:

செயல்திறன் அளவீடு நிலையான கிராஃபைட் வெப்ப புலம் VeTek சுத்திகரிக்கப்பட்ட கிராஃபைட் தீர்வு
கிராஃபைட் மொத்த சாம்பல் உள்ளடக்கம் 50 – 100 பிபிஎம் ≤ 2 – 5 பிபிஎம் (ஹாலஜன் சுத்திகரிக்கப்பட்டது)
மொத்த உலோக அசுத்தங்கள் (GDMS) ~15 – 30 ppm (Fe, Ni, V) < 0.5 பிபிஎம்
சராசரி சிறுபான்மையினர் கேரியர் வாழ்நாள் 85 – 120 μs (அதிக மாறுபாடு) 380 – 450 மைக்ரோ விநாடிகள் (தொடர்ந்து உயர்வாக)
வெப்ப புல கூறு ஆயுட்காலம் 60 – 75 இழுத்தல் சுழற்சிகள் 90 – 105 இழுத்தல் சுழற்சிகள் (+30%)
ஏ-கிரேடு என்-வகை இங்காட் மகசூல் விகிதம் 74.5% 92.5% (+18% மகசூல் மேம்பாடு)

அடிக்கடி கேட்கப்படும் கேள்விகள் (FAQ)

கேள்வி 1: 32-அங்குல N-வகை ஒற்றைப்படிக சிலிக்கான் இழுத்தலில் உற்பத்தி இழப்பிற்கான முதன்மைக் காரணம் என்ன?

அ1:உற்பத்தி இழப்பானது, முதன்மையாக உலோக அசுத்தக் கலப்படம் (சிறுபான்மை மின்னூட்டிகளின் ஆயுட்காலத்தைக் குறைத்தல்) மற்றும் திட-திரவப் படிக இடைமுகத்தைச் சீர்குலைக்கும் பெரிய விட்டம் கொண்ட கிராஃபைட் வெப்பமூட்டிகளின் கட்டமைப்பு வெப்ப உருக்குலைவு ஆகியவற்றால் ஏற்படுகிறது.

கேள்வி 2: ஹாலஜன் சுத்திகரிப்பு மூலம் சாம்பல் உள்ளடக்கத்தை 5 ppm-க்கும் குறைவாக எவ்வாறு அடைவது?

ஏ2:ஹாலஜன் சுத்திகரிப்பு முறையில், கிராஃபைட் பாகங்கள் குளோரின் மற்றும் ஃபுளூரின் வாயுக்களைச் செலுத்தி உயர் வெப்பநிலைக்கு (>2,400°C) உட்படுத்தப்படுகின்றன. இந்த வாயுக்கள், ஆழத்தில் புதைந்துள்ள உலோகத் தனிமங்களுடன் வினைபுரிந்து, அவற்றை ஆவியாகும் உலோக ஹாலைடுகளாக மாற்றுகின்றன. இந்த ஹாலைடுகள் வெளியேறி, அதிதூய்மையான கிராஃபைட்டை விட்டுச்செல்கின்றன.

கேள்வி 3: CVD SiC பூச்சை அனைத்து கிராஃபைட் வெப்பப் புலக் கூறுகளுக்கும் மீண்டும் பூச முடியுமா?

ஏ3:கிராஃபைட் மூசைகள், பாய்வு வழிகாட்டிகள், வெப்பமூட்டிகள் மற்றும் காப்பு பீப்பாய்கள் போன்ற அதிக தேய்மானம் உள்ள பாகங்களுக்கு CVD SiC பூச்சு பூசுவது மிகவும் உகந்தது. அடிப்பொருளின் தேய்மானத்தைப் பொறுத்து, தேர்ந்தெடுக்கப்பட்ட பாகங்களை மீண்டும் இயந்திர வேலைப்பாடு செய்து, மீண்டும் பூச முடியும். இது ஒட்டுமொத்த செயல்பாட்டுச் செலவுகளைக் குறைக்கிறது.

முடிவுரை மற்றும் தொழில்நுட்ப ஆலோசனை

CVD SiC பாதுகாப்புடன் கூடிய அதிதூய்மையான ஐசோஸ்டேடிக் கிராஃபைட் கூறுகளுக்கு மேம்படுத்துவது, 32-அங்குல N-வகை ஒற்றைப்படிக சிலிக்கான் வளர்ச்சியில் உள்ள உற்பத்தி மற்றும் மாசுக் குறைபாடுகளைத் தீர்ப்பதற்கு ஒரு நேரடியான, அளவிடக்கூடிய வழியை வழங்குகிறது. முதன்மை உற்பத்தியில் 18% முன்னேற்றம் மற்றும் 30% நீட்டிக்கப்பட்ட வெப்பப் புல ஆயுட்காலம் ஆகியவற்றின் மூலம், சூரிய மின்தகடு உற்பத்தியாளர்கள் கணிசமான முதலீட்டு வருவாயை (ROI) அடைய முடியும்.

உங்கள் மோனோகிரிஸ்டலின் வெப்பப் புலத்தை இன்றே மேம்படுத்துங்கள்

முழுமையான தொழில்நுட்பத் தரவுத் தாளை (TDS) பதிவிறக்கம் செய்யுங்கள் அல்லது உங்களுக்கேற்ற விலைப்புள்ளிக்காக எங்கள் பொறியியல் வல்லுநர்களைத் தொடர்பு கொள்ளுங்கள்.

உங்கள் மோனோகிரிஸ்டலின் வெப்பப் புலத்தை இன்றே மேம்படுத்துங்கள்

முழுமையான தொழில்நுட்பத் தரவுத் தாளை (TDS) பதிவிறக்கம் செய்யுங்கள் அல்லது உங்களுக்கேற்ற விலைப்புள்ளிக்காக எங்கள் பொறியியல் வல்லுநர்களைத் தொடர்பு கொள்ளுங்கள்.


பதிவிட்ட நேரம்: ஆகஸ்ட் 15, 2026
வாட்ஸ்அப் ஆன்லைன் அரட்டை!