Amaliy tadqiqot: N-turdagi kremniy o'sishida 32 dyuymli monokristalli termal maydonlar uchun yuqori tozalikdagi grafit komponentlari

Amaliy tadqiqot: N-turdagi kremniy o'sishida 32 dyuymli monokristalli termal maydonlar uchun yuqori tozalikdagi grafit komponentlari

Muallif:Doktor Stiven Qiu, VET Energy kompaniyasining katta yarimo'tkazgich materiallari muhandisi va texnik direktori

Nashr qilingan:2026-yil avgust | Texnik soha hisoboti va muhandislik tahlili

Qisqacha mazmuni va loyihaga umumiy nuqtai nazar

  • Sanoat:Quyosh PV va yarimo'tkazgichli kremniy plitalari ishlab chiqarish
  • Jarayon:Czochralski (CZ) N-turdagi (TOPCon/HJT) monokristalli quyma tortish
  • Uskunalar:32 dyuymli katta diametrli issiqlik maydonli pechlar (50 ta birlik baholandi)
  • Yechim:Chuqur halogenli tozalangan izostatik grafit komponentlari (kul ≤ 2-5 ppm) + CVD SiC qoplamasi
  • Miqdoriy ta'sir:Ozchilik tashuvchilarining umr ko'rish muddati <100 μs dan >380 μs gacha oshirildi; Quyma hosildorligi +18%; Termal maydon umri +30%.

Kirish: Yuqori samarali N-turdagi kremniy o'sishida 32 dyuymli issiqlik maydonidagi qiyinchilik

Fotovoltaika sanoati P-turdagi PERC dan N-turdagi TOPCon va Heterojunction (HJT) quyosh batareyalariga tez o'tishi bilan yuqori tozalikdagi kremniy plitalariga talab keskin oshdi. N-turdagi kremniy substratlari juda yuqori ozchilik tashuvchilarining umrini (odatda >300 μs) va nolga yaqin o'tish metalli aralashmalari bilan ifloslanishni talab qiladi.

Silikon plastinka ishlab chiqaruvchilari o'tkazuvchanlikni oshirish uchun tigel o'lchamlarini 32 dyuym va undan yuqoriga kengaytirmoqdalar. Biroq, 32 dyuymli termal maydonda 1450°C dan yuqori haroratlarda ishlash jiddiy muhandislik muammolarini keltirib chiqaradi:

  1. Termal degradatsiya va assimetriya:Standart grafit isitgichlar va poydevorlarda ulkan issiqlik gradiyentlari strukturaviy deformatsiya va yorilishga olib keladi.
  2. Uchuvchi metall ifloslanishi:An'anaviy grafit tarkibidagi iz aralashmalari elementlari (Fe, Ni, Cu, V) uzoq vaqt davomida kristall tortish jarayonida bug'lanadi, to'g'ridan-to'g'ri eritilgan kremniyga o'tadi va ozchilik tashuvchilarining umr bo'yi jiddiy degradatsiyasiga olib keladi.

Muhandislik yechimi: Ultra tozalangan izostatik grafit va CVD SiC himoyasi

Ushbu texnik to'siqlarni bartaraf etish uchun VeTek Semiconductor yuqori haroratli halogen tozalashga uchragan yuqori zichlikdagi izostatik grafit va himoya CVD kremniy karbid (SiC) qoplamalaridan iborat 32 dyuymli termal maydon yig'ilishi bo'ylab keng qamrovli material yangilanishini amalga oshirdi.

1. Chuqur galogen tozalash (kul miqdori ≤ 2-5 ppm)

Standart sanoat grafitida 50 ppm dan 200 ppm gacha bo'lgan quyma kul miqdori mavjud. Vakuum ostida 1450°C da bu mikroelementlar uchib ketadi. Bizning yuqori haroratli galogen gazni tozalash jarayonimiz metall aralashmalarni 2400°C dan yuqori haroratlarda uchuvchan galogen birikmalariga (xloridlar/ftoridlar) aylantiradi.

  • Yorqinlik bilan zaryadsizlanish massa spektrometriyasi (GDMS) sinoviumumiy metall aralashmalari (Fe, Cr, Ni, Cu, V) 0,5 ppm dan pastga tushirilganligini va umumiy kul miqdori ≤ 2 ppm ga yetganligini tasdiqlaydi.
  • Natija:Fon metall gazining ajralib chiqishini yo'q qiladi, eritilgan kremniy hovuzini 120+ soatlik uzluksiz tortish sikllari davomida ifloslanishdan himoya qiladi.

2. Issiqlik barqarorligi uchun yuqori zichlikdagi izostatik grafit tuzilishi

Grafit isitgichi, tigel susceptori va izolyatsiya bochkasi kabi komponentlar yuqori zichlikdagi (1,85 g/sm³), mayda donali (don hajmi <10 mkm) izostatik grafitdan ishlov beriladi. Izostatik presslash bir xil izotropik issiqlik kengayishini (CTE) ta'minlaydi, takroriy issiqlik sikllari ostida mahalliy issiqlik kuchlanishi, deformatsiya va mexanik yorilishning oldini oladi.

3. Himoya CVD kremniy karbidi (SiC) qoplamasi

Kremniy bug'i va korroziyali tozalash gazlari ta'siriga uchragan muhim komponentlar 50-80 mkm zichlikdagi kimyoviy bug' cho'kmasi (CVD) kremniy karbidi (SiC) qatlami bilan qoplangan.

  • Korroziya to'sig'i:Uchuvchan kremniy bug'i (SiO) va grafit substrati (SiO + 2C → SiC + CO) o'rtasida to'g'ridan-to'g'ri kimyoviy reaksiyaga kirishishning oldini oladi, sirt eroziyasini va uglerod changining paydo bo'lishini yo'q qiladi.
  • Geometrik aniqlik:Xizmat ko'rsatish oralig'ini 30% dan ortiqroq vaqt davomida aniq issiqlik maydoni geometriyasini saqlaydi.

O'lchangan ishlash ma'lumotlari va dala sinovlarini tasdiqlash

TOPCon kremniy plastinka ishlab chiqarish zavodida 1-darajali 50 ta ishlab chiqarish miqyosidagi 32 dyuymli CZ pechlarida 6 oylik qiyosiy dala sinovi o'tkazildi. Quyida standart grafit komponentlarini VeTek Semiconductorning tozalangan termal maydon eritmasi bilan taqqoslashning ishlash ko'rsatkichi keltirilgan:

Ishlash ko'rsatkichi Standart grafit issiqlik maydoni VeTek tozalangan grafit eritmasi
Grafit quyma kul miqdori 50 – 100 ppm ≤ 2 – 5 ppm (Galogen bilan tozalangan)
Umumiy metall aralashmalari (GDMS) ~15 – 30 ppm (Fe, Ni, V) <0,5 ppm
O'rtacha ozchilik tashuvchisi umri 85 – 120 μs (Yuqori o'zgaruvchanlik) 380 – 450 μs (Doimiy ravishda yuqori)
Termal maydon komponentining ishlash muddati 60-75 tortish sikllari 90 – 105 tortish sikllari (+30%)
A-darajali N-turdagi quyma hosildorlik darajasi 74,5% 92,5% (+18% hosildorlikning yaxshilanishi)

Tez-tez so'raladigan savollar (FAQ)

1-savol: 32 dyuymli N-turdagi monokristalli kremniy tortishda hosildorlikning yo'qolishining asosiy sababi nima?

A1:Hosildorlikning pasayishi asosan metall aralashmalarining ifloslanishi (ozchilik tashuvchilarining umrini qisqartirish) va katta diametrli grafit isitgichlarining strukturaviy termal deformatsiyasi bilan bog'liq bo'lib, bu qattiq-suyuq kristall interfeysini buzadi.

2-savol: Qanday qilib halogen tozalash kul miqdorini 5 ppm dan past darajaga yetkazadi?

A2:Galogenli tozalash grafit qismlarini yuqori haroratga (>2400°C) ta'sir qiladi, shu bilan birga xlor va ftor gazlarini yuboradi. Bu gazlar chuqur joylashgan metall elementlar bilan reaksiyaga kirishib, ularni uchuvchan metall galogenidlariga aylantiradi va natijada ultra toza grafit hosil bo'ladi.

3-savol: CVD SiC qoplamasini qayta qoplash yoki barcha grafit termal maydon komponentlariga qo'llash mumkinmi?

A3:CVD SiC qoplamasi grafit tigellar, oqim yo'riqnomalari, isitgichlar va izolyatsiya bochkalari kabi yuqori darajada aşınmaya bardoshli komponentlarga ideal tarzda qo'llaniladi. Substrat aşınmasına qarab, tanlangan komponentlarni qayta ishlov berish va qayta qoplash mumkin, bu esa umumiy operatsion xarajatlarni kamaytiradi.

Xulosa va texnik maslahat

CVD SiC himoyasi bilan ultra tozalangan izostatik grafit komponentlariga o'tish 32 dyuymli N-turdagi monokristalli kremniy o'sishida hosildorlik va aralashmalar bilan bog'liq muammolarni hal qilishning to'g'ridan-to'g'ri, o'lchanadigan yo'lini taqdim etadi. Asosiy hosildorlikning 18% ga yaxshilanishi va termal maydonning ishlash muddatini 30% ga uzaytirish bilan quyosh plastinalari ishlab chiqaruvchilari sezilarli ROI ga erishishlari mumkin.

Monokristalli issiqlik maydonini bugun optimallashtiring

To'liq texnik ma'lumotlar varag'ini (TDS) yuklab oling yoki moslashtirilgan narx taklifi uchun muhandislik mutaxassislarimiz bilan bog'laning.

Monokristalli issiqlik maydonini bugun optimallashtiring

To'liq texnik ma'lumotlar varag'ini (TDS) yuklab oling yoki moslashtirilgan narx taklifi uchun muhandislik mutaxassislarimiz bilan bog'laning.


Nashr vaqti: 2026-yil 15-avgust
WhatsApp onlayn chati!