TaC-beschichtetDas Substrat ist ein dünner Film ausTantalkarbidMaterial, das auf die Oberfläche des Substrats einer Epitaxieanlage aufgetragen wird.TaC-Beschichtungverfügt über viele hervorragende Eigenschaften und ist daher eine ideale Wahl.
Bei der TaC-Beschichtung handelt es sich um eine Art Tantalkarbid-Beschichtung (TaC), die durch physikalische Gasphasenabscheidung hergestellt wird und die folgenden Eigenschaften aufweist:
1. Hohe Härte: Die Härte der TaC-Beschichtung ist hoch und kann normalerweise 2500–3000 HV erreichen. Es handelt sich um eine ausgezeichnete Hartbeschichtung.
2. Verschleißfestigkeit: Die TaC-Beschichtung ist sehr verschleißfest, wodurch der Verschleiß und die Beschädigung mechanischer Teile während des Gebrauchs wirksam reduziert werden können.
3. Gute Hochtemperaturbeständigkeit: Die TaC-Beschichtung behält auch in Umgebungen mit hohen Temperaturen ihre hervorragende Leistung.
4. Gute chemische Stabilität: Die TaC-Beschichtung weist eine gute chemische Stabilität auf und kann vielen chemischen Reaktionen wie Säuren und Basen widerstehen.
| 碳化钽涂层物理特性物理特性 Physikalische Eigenschaften von TaC Beschichtung | |
| 密度/ Dichte | 14,3 (g/cm³) |
| 比辐射率 / Spezifischer Emissionsgrad | 0,3 |
| 热膨胀系数 / Wärmeausdehnungskoeffizient | 6.3 10-6/K |
| 努氏硬度/ Härte (HK) | 2000 HK |
| 电阻 / Widerstand | 1×10-5 Ohm*cm |
| 热稳定性 / Thermische Stabilität | <2500℃ |
| 石墨尺寸变化 / Graphitgrößenänderungen | -10~-20um |
| 涂层厚度 / Schichtdicke | ≥20 µm typischer Wert (35 µm±10 µm) |
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