Secara amnya, palang bas antara hujung output kabinet penerus relau grafit DC dan elektrod konduktif kepala relau dipanggil jaring pendek, dan palang bas yang digunakan dalam relau grafit secara amnya berbentuk segi empat tepat. Palang bas relau grafit diperbuat daripada kuprum dan aluminium. Kuprum mempunyai kekuatan mekanikal yang tinggi, kekonduksian elektrik yang baik dan rintangan kakisan yang kuat. Aluminium sedikit kurang konduktif, tetapi aluminium agak murah dan mempunyai berat yang lebih ringan.
Jadual 3-2 Data prestasi berkaitan kuprum dan aluminium
| 材 料 | 比重 | 极限强度（MPa） | 电阻率（µΩm） | 电阻的温度系数（1/℃） |
| 紫 铜 | 8.9 | 220 | 0.016 | 4.3×10-3 |
| 铝 | 2.7 | 110 | 0.025 | 4.7×10-3
|
Oleh kerana rintangan relau relau grafitisasi adalah kecil, terutamanya pada peringkat akhir penghantaran kuasa, rintangan relau menjadi lebih kecil, dan penurunan tekanan jaring pendek meningkat, mengakibatkan peningkatan kehilangan kuasa. Oleh itu, sama ada relau grafitisasi boleh beroperasi dengan selamat dan ekonomik mempunyai hubungan rapat dengan ciri-ciri jaring pendek.
Prinsip paling asas adalah untuk meminimumkan impedans jaring pendek dan mengekalkan keseluruhan jaring pendek dengan penurunan tekanan yang kecil. Terdapat pelbagai sentuhan dalam jaring pendek relau grafitisasi. Jika terdapat sentuhan antara elektrod konduktif dan bas kuprum, sentuhan antara bas lembut kuprum dan bas aluminium, sentuhan antara bas aluminium, dan sebagainya, sentuhan ini akan menghasilkan rintangan sentuhan, yang mempengaruhi ciri-ciri keseluruhan jaring pendek. Rintangan sentuhan konduktor yang mempunyai titik sambungan bukan sahaja bergantung pada sifat bahan, tetapi juga pada kawasan sentuhan dan tekanan sentuhan pada masa sambungan sentuhan. Atas sebab ini, yang paling asas apabila menyambungkan palang bas ialah: penggilapan yang ketat.
Jadual 3-3 Rintangan sentuhan grafit 1cm2 dan logam 1cm2
Prinsip paling asas adalah untuk meminimumkan impedans jaring pendek dan mengekalkan keseluruhan jaring pendek dengan penurunan tekanan yang kecil. Terdapat pelbagai sentuhan dalam jaring pendek relau grafitisasi. Jika terdapat sentuhan antara elektrod konduktif dan bas kuprum, sentuhan antara bas lembut kuprum dan bas aluminium, sentuhan antara bas aluminium, dan sebagainya, sentuhan ini akan menghasilkan rintangan sentuhan, yang mempengaruhi ciri-ciri keseluruhan jaring pendek. Rintangan sentuhan konduktor yang mempunyai titik sambungan bukan sahaja bergantung pada sifat bahan, tetapi juga pada kawasan sentuhan dan tekanan sentuhan pada masa sambungan sentuhan. Atas sebab ini, yang paling asas apabila menyambungkan palang bas ialah: penggilapan yang ketat.
Jadual 3-3 Rintangan sentuhan grafit 1cm2 dan logam 1cm2
| 压力 | 石墨–石墨µΩ | 石墨—铜µΩ | 石墨—铝µΩ |
| 0.2 | 70 | 100 | 6000 |
| 0.5 | 40 | 70 | 2600 |
| 1 | 25 | 50 | 1300 |
| 2 | 14 | 32 | 500 |
| 4 | 7.5 | 16 |
Jadual 3-4 Rintangan sentuhan karbon 1cm2 dan logam 1cm2
| 压力 | 炭–炭µΩ | 炭—铜µΩ | 炭—铝µΩ |
| 0.05 | 750 | 2100 | 20000 |
| 0.1 | 520 | 1800 | 16000 |
| 0.2 | 380 | 1400 | 10000 |
| 0.4 | 290 | 850 | 4000 |
| 0.6 | 250 | 600 | 1700
|
Masa siaran: 16-Sep-2019