Strutturi epitassjali tal-gallju arsenur-fosfid, simili għal strutturi prodotti tat-tip sottostrat ASP (ET0.032.512TU), għall-manifattura ta' kristalli LED ħomor planari.
Parametru tekniku bażiku
għal strutturi tal-gallju arsenur-fosfid
| 1, SottostratGaAs | |
| a. Tip ta' konduttività | elettroniku |
| b. Reżistività, ohm-cm | 0,008 |
| c. Orjentazzjoni tal-kannizzata tal-kristall | (100) |
| d. Diżorjentazzjoni tal-wiċċ | (1−3)° |
| 2. Saff epitassjali GaAs1-х Pх | |
| a. Tip ta' konduttività | elettroniku |
| b. Kontenut ta' fosfru fis-saff ta' transizzjoni | minn х = 0 sa х ≈ 0,4 |
| c. Kontenut ta' fosfru f'saff ta' kompożizzjoni kostanti | х ≈ 0,4 |
| d. Konċentrazzjoni tat-trasportatur, сm3 | (0,2−3,0)·1017 |
| e. Tul ta' mewġa fil-massimu tal-ispettru tal-fotoluminexxenza, nm | 645−673 nm |
| f. Tul ta' mewġa fil-massimu tal-ispettru tal-elettroluminexxenza | 650−675 nm |
| g. Ħxuna tas-saff kostanti, mikron | Mill-inqas 8 nm |
| h. Ħxuna tas-saff (totali), mikron | Mill-inqas 30 nm |
| 3 Pjanċa b'saff epitassjali | |
| a. Deflessjoni, mikron | L-aktar 100 um |
| b. Ħxuna, mikron | 360−600 um |
| ċ. Ċentimetru kwadru | Mill-inqas 6 ċm2 |
| d. Intensità luminuża speċifika (wara d-diffużjoniZn), cd/amp | Mill-inqas 0,05 cd/amp |
-
Moffa tal-ikkastjar tad-deheb u l-fidda Moffa tas-silikon, Si...
-
Pjanċa tal-grafita ta' purità għolja għal temperatura għolja u...
-
Batterija tal-fluss tal-vanadju ta' 50kw/200kwh b'għażla...
-
Manifattura ta' Ċelloli tal-Fjuwil b'Membrana ta' Skambju ta' Protoni...
-
Forn ta' induzzjoni ta' tisħin tajjeb għat-tidwib tas-silikon...
-
Magni taċ-Ċelloli tal-Fjuwil tal-Idroġenu b'Effiċjenza Għolja ta' 1000w...





