სიახლეები

  • 8 დიუმიანი SiC ეპიტაქსიური ღუმელისა და ჰომეოეპიტაქსიური პროცესის კვლევა-Ⅰ

    8 დიუმიანი SiC ეპიტაქსიური ღუმელისა და ჰომეოეპიტაქსიური პროცესის კვლევა-Ⅰ

    ამჟამად, SiC ინდუსტრია 150 მმ-დან (6 ინჩი) 200 მმ-მდე (8 ინჩი) გარდაიქმნება. ინდუსტრიაში დიდი ზომის, მაღალი ხარისხის SiC ჰომოეპიტაქსიური ვაფლების მიმართ არსებული მოთხოვნის დასაკმაყოფილებლად, წარმატებით მომზადდა 150 მმ და 200 მმ 4H-SiC ჰომოეპიტაქსიური ვაფლები...
    დაწვრილებით
  • ფოროვანი ნახშირბადის ფოროვანი სტრუქტურის ოპტიმიზაცია -Ⅱ

    ფოროვანი ნახშირბადის ფოროვანი სტრუქტურის ოპტიმიზაცია -Ⅱ

    კეთილი იყოს თქვენი მობრძანება ჩვენს ვებგვერდზე პროდუქტის შესახებ ინფორმაციისა და კონსულტაციისთვის. ჩვენი ვებგვერდი: https://www.vet-china.com/ ფიზიკური და ქიმიური აქტივაციის მეთოდი ფიზიკური და ქიმიური აქტივაციის მეთოდი გულისხმობს ფოროვანი მასალების მომზადების მეთოდს ზემოთ ჩამოთვლილი ორი მოქმედების გაერთიანებით...
    დაწვრილებით
  • ფოროვანი ნახშირბადის ფოროვანი სტრუქტურის ოპტიმიზაცია-Ⅰ

    ფოროვანი ნახშირბადის ფოროვანი სტრუქტურის ოპტიმიზაცია-Ⅰ

    კეთილი იყოს თქვენი მობრძანება ჩვენს ვებგვერდზე პროდუქტის შესახებ ინფორმაციისა და კონსულტაციისთვის. ჩვენი ვებგვერდი: https://www.vet-china.com/ ეს ნაშრომი აანალიზებს გააქტიურებული ნახშირბადის მიმდინარე ბაზარს, ატარებს გააქტიურებული ნახშირბადის ნედლეულის სიღრმისეულ ანალიზს, წარმოგვიდგენს ფორების სტრუქტურას...
    დაწვრილებით
  • ნახევარგამტარული პროცესის ნაკადი-Ⅱ

    ნახევარგამტარული პროცესის ნაკადი-Ⅱ

    კეთილი იყოს თქვენი მობრძანება ჩვენს ვებგვერდზე პროდუქტის შესახებ ინფორმაციისა და კონსულტაციისთვის. ჩვენი ვებგვერდი: https://www.vet-china.com/ პოლი და SiO2-ის გრავირება: ამის შემდეგ, ჭარბი პოლი და SiO2 გრავირდება, ანუ შორდება. ამ დროს გამოიყენება მიმართულების გრავირება. კლასიფიკაციაში...
    დაწვრილებით
  • ნახევარგამტარული პროცესის ნაკადი

    ნახევარგამტარული პროცესის ნაკადი

    მისი გაგება მაშინაც შეგიძლიათ, თუ ფიზიკა ან მათემატიკა არასდროს გისწავლიათ, თუმცა ის ცოტა ზედმეტად მარტივია და დამწყებთათვის შესაფერისია. თუ გსურთ მეტი გაიგოთ CMOS-ის შესახებ, უნდა წაიკითხოთ ამ ნომრის შინაარსი, რადგან მხოლოდ პროცესის ნაკადის (ანუ...) გააზრების შემდეგ.
    დაწვრილებით
  • ნახევარგამტარული ვაფლის დაბინძურების და გაწმენდის წყაროები

    ნახევარგამტარული ვაფლის დაბინძურების და გაწმენდის წყაროები

    ნახევარგამტარების წარმოებაში მონაწილეობის მისაღებად საჭიროა გარკვეული ორგანული და არაორგანული ნივთიერებები. გარდა ამისა, რადგან პროცესი ყოველთვის სუფთა ოთახში ადამიანის მონაწილეობით ხორციელდება, ნახევარგამტარების ვაფლები გარდაუვლად ბინძურდება სხვადასხვა მინარევებით. შესაბამისად...
    დაწვრილებით
  • დაბინძურების წყაროები და პრევენცია ნახევარგამტარული წარმოების ინდუსტრიაში

    დაბინძურების წყაროები და პრევენცია ნახევარგამტარული წარმოების ინდუსტრიაში

    ნახევარგამტარული მოწყობილობების წარმოება ძირითადად მოიცავს დისკრეტულ მოწყობილობებს, ინტეგრირებულ სქემებს და მათი შეფუთვის პროცესებს. ნახევარგამტარული წარმოება შეიძლება დაიყოს სამ ეტაპად: პროდუქტის კორპუსის მასალის წარმოება, პროდუქტის ვაფლის წარმოება და მოწყობილობის აწყობა. მათ შორის,...
    დაწვრილებით
  • რატომ არის საჭირო გათხელება?

    რატომ არის საჭირო გათხელება?

    უკანა დამუშავების ეტაპზე, ვაფლის (სილიკონის ვაფლი წინა მხარეს წრედებით) უკანა მხრიდან გათხელებაა საჭირო შემდგომი დაჭრამდე, შედუღებამდე და შეფუთვამდე, რათა შემცირდეს პაკეტის დამონტაჟების სიმაღლე, ჩიპის პაკეტის მოცულობა, გაუმჯობესდეს ჩიპის თერმული დიფუზია...
    დაწვრილებით
  • მაღალი სისუფთავის SiC მონოკრისტალური ფხვნილის სინთეზის პროცესი

    მაღალი სისუფთავის SiC მონოკრისტალური ფხვნილის სინთეზის პროცესი

    სილიციუმის კარბიდის მონოკრისტალის ზრდის პროცესში, ფიზიკური ორთქლის ტრანსპორტირება ინდუსტრიალიზაციის ამჟამინდელი მთავარი მეთოდია. PVT ზრდის მეთოდისთვის, სილიციუმის კარბიდის ფხვნილს დიდი გავლენა აქვს ზრდის პროცესზე. სილიციუმის კარბიდის ფხვნილის ყველა პარამეტრი პირდაპირ დამოკიდებულია...
    დაწვრილებით
WhatsApp-ის ონლაინ ჩატი!