Кольцо фокусировки CVD-покрытия

Фокусирующее кольцо для CVD-покрытия при плазменном травлении — это важнейший расходный компонент, используемый в современных системах травления полупроводников. Разработанное на основе композитной структуры из подложки и CVD-покрытия, это изделие предназначено для оптимизации распределения плазмы, повышения равномерности травления и увеличения срока службы компонентов камеры.

В компании Vet Energy мы используем обширный опыт в области технологии химического осаждения из газовой фазы (CVD) и передовых керамических материалов для создания фокусирующих колец, отвечающих строгим требованиям современных полупроводниковых технологических узлов, включая процессы FinFET и 3D NAND.

Роль фокусирующего кольца в плазменном травлении

В системах плазменного травления (таких как реакторы ICP и CCP) фокусирующее кольцо располагается по краю пластины и играет жизненно важную роль в обеспечении стабильности процесса и повышении выхода годной продукции.

1. Контроль однородности плазмы

Фокусирующее кольцо выступает в качестве электрической и физической границы, которая помогает регулировать распределение плотности плазмы по поверхности пластины.

Основные преимущества:

● Улучшена равномерность скорости травления
● Снижено отклонение от центра к краю
● Повышенная повторяемость процесса

2. Компенсация краевых эффектов

Без фокусирующего кольца искажение плазменной оболочки по краю пластины может привести к неравномерному травлению.

Фокусирующее кольцо эффективно функционирует как «виртуальное расширение пластины», минимизируя аномалии, связанные с краями, такие как:

● Перетравливание по краям пластины
● Отклонение критического размера (CD)
● Искажение профиля

3. Управление траекторией и энергией ионов

Воздействуя на локальное электрическое поле, фокусирующее кольцо помогает стабилизировать углы падения ионов и распределение энергии, что имеет решающее значение для:

● Травление с высоким соотношением сторон (HAR)
● Анизотропное управление профилем
● Снижено повреждение боковины

4. Защита камеры и снижение уровня загрязнения

В качестве жертвенного компонента фокусирующее кольцо поглощает прямое воздействие плазмы и продукты осаждения.

Полученные преимущества:

● Снижение эрозии стенок камеры
● Более низкий уровень загрязнения частицами
● Увеличенные циклы технического обслуживания (интервалы планового технического обслуживания)