Mae Cludwr Gorchudd SiC ar gyfer RTP/RTA yn gydran allweddol a ddefnyddir yn y prosesau gweithgynhyrchu lled-ddargludyddion o'r enw Prosesu Thermol Cyflym ac Anelio, rydym yn defnyddio ein technoleg patent i wneud y cludwr silicon carbid gyda phurdeb eithriadol o uchel, unffurfiaeth gorchudd da a bywyd gwasanaeth rhagorol, yn ogystal â phriodweddau ymwrthedd cemegol uchel a sefydlogrwydd thermol.
Nodweddion ein cynnyrch:
1. Gwrthiant ocsideiddio tymheredd uchel hyd at 1700 ℃.
2. Purdeb uchel ac unffurfiaeth thermol
3. Gwrthiant cyrydiad rhagorol: asid, alcali, halen ac adweithyddion organig.
4. Caledwch uchel, arwyneb cryno, gronynnau mân.
5. Bywyd gwasanaeth hirach a mwy gwydn
| CVD SiC薄膜基本物理性能 Priodweddau ffisegol sylfaenol CVD SiCcotio | |
| 性质 / Eiddo | 典型数值 / Gwerth Nodweddiadol |
| 晶体结构 / Strwythur Grisial | Cyfnod β FCC多晶,主要为（111）取向 |
| 密度 / Dwysedd | 3.21 g/cm³ |
| 硬度 / Caledwch | 2500 维氏硬度（500g llwyth） |
| 晶粒大小 / Maint y Grawn | 2~10μm |
| 纯度 / Purdeb Cemegol | 99.99995% |
| 热容 / Capasiti Gwres | 640 J·kg-1·K-1 |
| 升华温度 / Tymheredd Sublimation | 2700℃ |
| 抗弯强度 / Cryfder Plygu | 415 MPa RT 4 pwynt |
| 杨氏模量 Modiwlws Young | Plyg 430 Gpa 4pt, 1300℃ |
| 导热系数 / ThermalDargludedd | 300W·m-1·K-1 |
| 热膨胀系数 Ehangu Thermol (CTE) | 4.5×10-6K-1 |
VET Energy yw'r gwneuthurwr go iawn o gynhyrchion graffit a silicon carbid wedi'u haddasu gyda gwahanol orchuddion fel cotio SiC, cotio TaC, cotio carbon gwydrog, cotio carbon pyrolytig, ac ati, a gall gyflenwi amrywiol rannau wedi'u haddasu ar gyfer y diwydiant lled-ddargludyddion a ffotofoltäig.
Daw ein tîm technegol o sefydliadau ymchwil domestig gorau, a gallant ddarparu atebion deunydd mwy proffesiynol i chi.
Rydym yn datblygu prosesau uwch yn barhaus i ddarparu deunyddiau mwy datblygedig, ac rydym wedi datblygu technoleg patent unigryw, a all wneud y bondio rhwng yr haen a'r swbstrad yn dynnach ac yn llai tebygol o ddatgysylltu.
Croeso cynnes i chi ymweld â'n ffatri, gadewch i ni gael trafodaeth bellach!
