Hír

  • Mi az ostyakockázás?

    Mi az ostyakockázás?

    Egy ostyának három változáson kell keresztülmennie ahhoz, hogy valódi félvezető chippé váljon: először a blokk alakú öntvényt ostyákká vágják; a második folyamatban a tranzisztorokat az ostya elejére gravírozzák az előző folyamat során; végül a csomagolást, azaz a vágási folyamatot végzik el...
    További információ
  • Szilícium-karbid kerámiák alkalmazása a félvezetők területén

    Szilícium-karbid kerámiák alkalmazása a félvezetők területén

    A fotolitográfiai gépek precíziós alkatrészeinek előnyben részesített anyaga A félvezetők területén a szilícium-karbid kerámia anyagokat főként az integrált áramkörök gyártásának kulcsfontosságú berendezéseiben használják, mint például a szilícium-karbid munkaasztalok, vezetősínek, reflektorok, kerámia szívótokmány, karok, g...
    További információ
  • Melyek az egykristályos kemence hat rendszere?

    Melyek az egykristályos kemence hat rendszere?

    Az egykristályos kemence egy olyan eszköz, amely grafitfűtőt használ polikristályos szilícium anyagok inert gáz (argon) környezetben történő megolvasztására, és a Czochralski-módszert alkalmazza nem diszlokált egykristályok növesztésére. Főként a következő rendszerekből áll: Mechanikus...
    További információ
  • Miért van szükség grafitra az egykristályos kemence hőterében?

    Miért van szükség grafitra az egykristályos kemence hőterében?

    A függőleges egykristályos kemence termikus rendszerét termikus mezőnek is nevezik. A grafit termikus mező rendszer funkciója a szilícium anyagok olvasztására és az egykristályok növekedésének egy bizonyos hőmérsékleten tartására szolgáló teljes rendszerre vonatkozik. Egyszerűen fogalmazva, ez egy komplett gra...
    További információ
  • Többféle eljárás a félvezető szeletek vágásához

    Többféle eljárás a félvezető szeletek vágásához

    A szeletvágás az egyik fontos láncszem a teljesítmény-félvezetők gyártásában. Ez a lépés az egyes integrált áramkörök vagy chipek pontos elválasztására szolgál a félvezető szeletektől. A szeletvágás kulcsa az egyes chipek szétválasztásának képessége, miközben biztosítjuk a kényes szerkezet...
    További információ
  • BCD-folyamat

    BCD-folyamat

    Mi a BCD eljárás? A BCD eljárás egy egychipes integrált eljárástechnológia, amelyet az ST vezetett be először 1986-ban. Ez a technológia bipoláris, CMOS és DMOS eszközöket képes létrehozni ugyanazon a chipen. Megjelenése jelentősen csökkenti a chip területét. Elmondható, hogy a BCD eljárás teljes mértékben kihasználja...
    További információ
  • BJT, CMOS, DMOS és egyéb félvezető technológiai megoldások

    BJT, CMOS, DMOS és egyéb félvezető technológiai megoldások

    Üdvözöljük weboldalunkon, ahol termékinformációkat és konzultációt kaphat. Weboldalunk: https://www.vet-china.com/ Ahogy a félvezetőgyártási folyamatok folyamatosan áttörést érnek el, az iparágban egyre népszerűbbé vált a "Moore-törvény" nevű híres állítás. ...
    További információ
  • Félvezető mintázási folyamat áramlásos maratás

    Félvezető mintázási folyamat áramlásos maratás

    A korai nedves maratás elősegítette a tisztítási vagy hamvasztási eljárások fejlődését. Napjainkban a plazma segítségével végzett száraz maratás vált a maratás általánossá. A plazma elektronokból, kationokból és gyökökből áll. A plazmára alkalmazott energia a t legkülső elektronjait...
    További információ
  • 8 hüvelykes SiC epitaxiális kemencével és homoepitaxiális eljárással kapcsolatos kutatás - II.

    8 hüvelykes SiC epitaxiális kemencével és homoepitaxiális eljárással kapcsolatos kutatás - II.

    2 Kísérleti eredmények és megbeszélés 2.1 Epitaxiális réteg vastagsága és egyenletessége Az epitaxiális réteg vastagsága, a doppingkoncentráció és az egyenletesség az epitaxiális ostyák minőségének megítélésének egyik fő mutatója. A pontosan szabályozható vastagság, a doppingolás...
    További információ
Online csevegés WhatsApp-on!