Pembawa Etching ICP

Deskripsi Singkat:

Tempat Asal:Cina

Struktur Kristal:Fase FCCβ

Kepadatan:3,21 g/cm;

Kekerasan:2500 Vickers;

Ukuran Butir:2~10μm;

Kemurnian Kimia:99,99995%;

Kapasitas Panas:640J·kg-1·K-1;

Suhu Sublimasi:2700℃;

Kekuatan Femoral:415 MPa (RT 4-Point);

Modulus Young:430 Gpa (tekuk 4 titik, 1300℃);

Ekspansi Termal (CTE):4.5 10-6K-1;

Konduktivitas Termal:300 (W/MK);

Kirim email kepada kami Unduh sebagai PDF

Detail Produk

Label Produk

Deskripsi Produk

Perusahaan kami menyediakan layanan proses pelapisan SiC dengan metode CVD pada permukaan grafit, keramik, dan material lainnya, sehingga gas khusus yang mengandung karbon dan silikon bereaksi pada suhu tinggi untuk mendapatkan molekul SiC dengan kemurnian tinggi, molekul tersebut diendapkan pada permukaan material yang dilapisi, membentuk lapisan pelindung SiC.

Fitur utama:

1. Ketahanan oksidasi suhu tinggi:

Ketahanan terhadap oksidasi masih sangat baik bahkan pada suhu setinggi 1600 C.

2. Kemurnian tinggi: dibuat dengan pengendapan uap kimia di bawah kondisi klorinasi suhu tinggi.

3. Ketahanan terhadap erosi: kekerasan tinggi, permukaan padat, partikel halus.

4. Ketahanan terhadap korosi: asam, alkali, garam, dan reagen organik.

Spesifikasi Utama Pelapisan CVD-SIC

Sifat-sifat SiC-CVD
Struktur Kristal	Fase β FCC
Kepadatan	g/cm³	3.21
Kekerasan	Kekerasan Vickers	2500
Ukuran Butir	mikrometer	2~10
Kemurnian Kimia	%	99,99995
Kapasitas Panas	J·kg-1 ·K-1	640
Suhu Sublimasi	℃	2700
Kekuatan Fleksibilitas	MPa (RT 4-titik)	415
Modulus Young	Gpa (tekuk 4pt, 1300℃)	430
Ekspansi Termal (CTE)	10-6K-1	4.5
Konduktivitas termal	(W/mK)	300