OEM/ODM GaNベースSiC基板上エピタキシャル卸売4インチ

簡単な説明:

エピタキシャル成長プロセスで使用されるウェーハキャリアは、高温と過酷な化学洗浄に耐えなければなりません。CoorsTek Clear Carbon™サセプターは、これらの要求の厳しいエピタキシャル装置アプリケーション向けに特別に設計されています。高純度シリコンカーバイド(SiC)コーティングされたグラファイト構造は、優れた耐熱性、均一な熱均一性(エピ層の厚さと抵抗値の均一性)、そして耐久性のある耐薬品性を備えています。微細SiC結晶コーティングは、清浄で滑らかな表面を提供します。これは、清浄なウェーハがサセプターの全域にわたって多くの点で接触するため、ハンドリングにとって非常に重要です。


製品詳細

製品タグ

これは、当社の製品とサービスを向上させるための良い方法です。当社の使命は、OEM/ODM GaN-Based depitaxial on SiC Substrates 4インチの卸売における豊富な経験を活かし、お客様に独創的な製品とソリューションを提供することです。当社は、自社ブランドの構築に注力し、経験豊富な表現力と一流の設備を組み合わせています。当社の製品は、お客様にご満足いただける価値を提供します。
これは、当社の製品やソリューション、そしてサービスを向上させるための良い方法です。私たちの使命は、お客様に素晴らしい体験を提供する、想像力豊かな製品やソリューションを提供することです。中国 GaN基板およびGaNフィルム幅広い品揃え、優れた品質、リーズナブルな価格、そしてスタイリッシュなデザインを誇る当社の商品は、美容業界をはじめ様々な業界で幅広くご利用いただいています。当社の製品とソリューションは、ユーザーの皆様から広く認知され、信頼されており、絶えず変化する経済・社会のニーズにも応えることができます。

SiCコーティンググラファイトMOCVDウェーハキャリア

当社のサセプターはすべて高強度のアイソスタティックグラファイト製です。エピタキシー、結晶成長、イオン注入、プラズマエッチングといった高度なプロセス、そしてLEDチップの製造向けに特別に開発された当社のグラファイトは、高純度というメリットをお届けします。

製品説明
半導体用途のグラファイト基板の SiC コーティングにより、純度と酸化雰囲気に対する耐性に優れた部品が生成されます。
CVD SiCまたはCVI SiCは、シンプルな設計から複雑な設計まで、様々な形状の部品のグラファイトに塗布できます。コーティングは様々な厚さで、また非常に大型の部品にも適用可能です。

 

コンポン

SiCコーティンググラファイトMOCVDウェーハキャリア

当社のSiCコーティンググラファイトサセプターは、極めて高い純度、均一なコーティング、そして優れた耐用年数といった特長を備えています。また、高い耐薬品性と熱安定性も備えています。

SiCコーティングの適用においては、高精度機械加工により均一なサセプタープロファイルを確保し、非常に厳しい公差を維持しています。また、誘導加熱システムに最適な電気抵抗特性を持つ材料も製造しています。すべての完成品には、純度および寸法適合証明書が付属しています。

応用:

2

特徴:
· 優れた耐熱衝撃性
· 優れた物理的耐衝撃性
· 優れた耐薬品性
· 超高純度
· 複雑な形状でも利用可能
· 酸化雰囲気下で使用可能ベースグラファイト材料の代表的な特性:

見かけ密度: 1.85 g/cm3
電気抵抗率: 11μΩm
曲げ強度: 49 MPa(500kgf/cm2)
ショア硬度: 58
灰: 5ppm未満
熱伝導率: 116 W/mK (100 kcal/mhr-℃)

これは、当社の製品とサービスを向上させるための良い方法です。当社の使命は、OEM/ODM GaN-Based depitaxial on SiC Substrates 4インチの卸売における豊富な経験を活かし、お客様に独創的な製品とソリューションを提供することです。当社は、自社ブランドの構築に注力し、経験豊富な表現力と一流の設備を組み合わせています。当社の製品は、お客様にご満足いただける価値を提供します。
卸売OEM/ODM中国 GaN基板およびGaNフィルム幅広い品揃え、優れた品質、リーズナブルな価格、そしてスタイリッシュなデザインを誇る当社の商品は、美容業界をはじめ様々な業界で幅広くご利用いただいています。当社の製品とソリューションは、ユーザーの皆様から広く認知され、信頼されており、絶えず変化する経済・社会のニーズにも応えることができます。


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