Ferramentas bem administradas, equipe de lucros especializada e produtos e serviços de pós-venda muito melhores; Também somos uma grande empresa unificada, todos seguem o princípio de "unificação, dedicação e tolerância" para pás cantilever RBSIC/SISIC de carboneto de silício de alta qualidade usadas na indústria solar fotovoltaica. Damos as boas-vindas aos parceiros empresariais nacionais e estrangeiros e esperamos trabalhar com você em um futuro próximo!
Ferramentas bem administradas, equipe de lucros especializada e produtos e serviços pós-venda muito melhores; Também somos uma família principal unificada, todos seguem o benefício da empresa “unificação, dedicação, tolerância” paraForno cerâmico refratário e de cerâmica da ChinaPara atender às necessidades de clientes individuais, oferecendo um serviço ainda mais perfeito e produtos de qualidade estável. Damos as boas-vindas a clientes de todo o mundo para nos visitarem, com nossa cooperação multifacetada, e juntos desenvolvermos novos mercados, criando um futuro brilhante!
Revestimento de SiC/revestimento de substrato de grafite para semicondutores Susceptores retêm e aquecem wafers semicondutores durante o processamento térmico. Um susceptor é feito de um material que absorve energia por indução, condução e/ou radiação e aquece o wafer. Sua resistência ao choque térmico, condutividade térmica e pureza são essenciais para o processamento térmico rápido (RTP). Grafite revestido com carboneto de silício, carboneto de silício (SiC) e silício (Si) são comumente usados para susceptores, dependendo do ambiente térmico e químico específico. PureSiC® CVD SiC e ClearCarbon™, materiais ultrapuros que oferecem estabilidade térmica, resistência à corrosão e durabilidade superiores. Descrição do produto
O revestimento de SiC do substrato de grafite para aplicações semicondutoras produz uma peça com pureza superior e resistência à atmosfera oxidante.
O SiC CVD ou SiC CVI é aplicado ao grafite em peças de design simples ou complexo. O revestimento pode ser aplicado em espessuras variadas e em peças muito grandes.

Cerâmicas técnicas são uma escolha natural para aplicações de processamento térmico de semicondutores, incluindo RTP (Processamento Térmico Rápido), Epi (Epitaxial), difusão, oxidação e recozimento. A CoorsTek fornece componentes de materiais avançados, projetados especificamente para suportar choques térmicos com desempenho de alta pureza, robustez e repetibilidade para altas temperaturas.
Características:
· Excelente resistência ao choque térmico
· Excelente resistência física ao choque
· Excelente resistência química
· Super Alta Pureza
· Disponibilidade em formato complexo
· Utilizável em atmosfera oxidante
aplicativo:
Um wafer precisa passar por várias etapas antes de estar pronto para uso em dispositivos eletrônicos. Um processo importante é a epitaxia de silício, na qual os wafers são transportados por susceptores de grafite. As propriedades e a qualidade dos susceptores têm um efeito crucial na qualidade da camada epitaxial do wafer.
Propriedades típicas do material de grafite base:
| Densidade aparente: | 1,85 g/cm3 |
| Resistividade elétrica: | 11 μΩm |
| Resistência à flexão: | 49 MPa (500 kgf/cm2) |
| Dureza Shore: | 58 |
| Cinzas: | <5 ppm |
| Condutividade térmica: | 116 W/mK (100 kcal/mh-℃) |
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