Strumenti ben funzionanti, personale esperto in profitti e prodotti e servizi post-vendita molto migliori; siamo anche una grande famiglia unita, tutti aderiscono al vantaggio aziendale di "unione, dedizione, tolleranza" per la pala a sbalzo in carburo di silicio RBSIC/SISIC di buona qualità utilizzata nel settore solare fotovoltaico. Diamo un sincero benvenuto ai due partner commerciali nazionali e stranieri e speriamo di collaborare con voi nel prossimo e lungo termine!
Strumenti ben funzionanti, personale esperto in profitti e prodotti e servizi post-vendita molto migliori; siamo anche una grande famiglia unita, tutti aderiscono al vantaggio aziendale "unione, dedizione, tolleranza" perCina Forno per ceramica e ceramica refrattariaPer soddisfare le esigenze di ogni singolo cliente, offrendo un servizio sempre più impeccabile e prodotti di qualità costante. Invitiamo calorosamente i clienti di tutto il mondo a visitarci, grazie alla nostra cooperazione multiforme, allo sviluppo congiunto di nuovi mercati e alla creazione di un futuro brillante!
Rivestimento in SiC/rivestimento di substrato in grafite per semiconduttori I suscettori trattengono e riscaldano i wafer semiconduttori durante il processo termico. Un suscettore è costituito da un materiale che assorbe energia per induzione, conduzione e/o radiazione e riscalda il wafer. La sua resistenza agli shock termici, la conduttività termica e la purezza sono fondamentali per il processo termico rapido (RTP). La grafite rivestita in carburo di silicio, il carburo di silicio (SiC) e il silicio (Si) sono comunemente utilizzati per i suscettori, a seconda dello specifico ambiente termico e chimico. PureSiC® CVD SiC e ClearCarbon™ sono materiali ultra puri che offrono stabilità termica, resistenza alla corrosione e durata superiori. Descrizione del prodotto
Il rivestimento in SiC del substrato di grafite per applicazioni di semiconduttori produce un componente con purezza superiore e resistenza all'atmosfera ossidante.
Il rivestimento CVD SiC o CVI SiC viene applicato alla grafite di componenti dal design semplice o complesso. Il rivestimento può essere applicato in spessori variabili e su componenti di grandi dimensioni.

La ceramica tecnica è la scelta ideale per le applicazioni di trattamento termico dei semiconduttori, tra cui RTP (Rapid Thermal Processing), Epi (Epitassiale), diffusione, ossidazione e ricottura. CoorsTek fornisce componenti in materiali avanzati specificamente progettati per resistere agli shock termici, con prestazioni di elevata purezza, robustezza e ripetibilità per alte temperature.
Caratteristiche:
· Eccellente resistenza agli shock termici
· Eccellente resistenza fisica agli urti
· Eccellente resistenza chimica
· Super elevata purezza
· Disponibilità in forma complessa
· Utilizzabile in atmosfera ossidante
applicazione:
Un wafer deve passare attraverso diverse fasi prima di essere pronto per l'uso nei dispositivi elettronici. Un processo importante è l'epitassia al silicio, in cui i wafer sono trasportati su suscettori di grafite. Le proprietà e la qualità dei suscettori hanno un effetto cruciale sulla qualità dello strato epitassiale del wafer.
Proprietà tipiche del materiale di base in grafite:
| Densità apparente: | 1,85 g/cm3 |
| Resistività elettrica: | 11 μΩm |
| Resistenza alla flessione: | 49 MPa (500 kgf/cm2) |
| Durezza Shore: | 58 |
| Cenere: | <5 ppm |
| Conduttività termica: | 116 W/mK (100 kcal/mhr-℃) |
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