די פאָרמירונג פון סיליקאָן דייאַקסייד אויף דער ייבערפלאַך פון סיליקאָן ווערט גערופן אַקסאַדיישאַן, און די שאַפונג פון סטאַביל און שטאַרק אַדכערענט סיליקאָן דייאַקסייד האט געפֿירט צו דער געבורט פון סיליקאָן אינטעגרירטע קרייַז פּלאַנאַר טעכנאָלאָגיע. כאָטש עס זענען פילע וועגן צו וואַקסן סיליקאָן דייאַקסייד גלייך אויף דער ייבערפלאַך פון סיליקאָן, ווערט עס געוויינטלעך געטאָן דורך טערמישע אַקסאַדיישאַן, וואָס איז צו ויסשטעלן דעם סיליקאָן צו אַ הויך טעמפּעראַטור אַקסאַדייטינג סוויווע (זויערשטאָף, וואַסער). טערמישע אַקסאַדיישאַן מעטהאָדס קענען קאָנטראָלירן די פילם גרעב און סיליקאָן/סיליקאָן דייאַקסייד צובינד קעראַקטעריסטיקס בעשאַס די צוגרייטונג פון סיליקאָן דייאַקסייד פילמען. אנדערע טעקניקס פֿאַר גראָוינג סיליקאָן דייאַקסייד זענען פּלאַזמע אַנאָדיזאַטיאָן און נאַס אַנאָדיזאַטיאָן, אָבער קיין איינער פון די טעקניקס איז נישט וויידלי געניצט אין VLSI פּראָצעסן.
סיליקאָן ווײַזט אַ טענדענץ צו שאַפֿן סטאַבילן סיליקאָן דייאַקסייד. אויב פֿריש געשפּאָלטענעם סיליקאָן ווערט אויסגעשטעלט צו אַן אָקסידירנדיקער סביבה (ווי זויערשטאָף, וואַסער), וועט עס שאַפֿן אַ זייער דין אָקסייד שיכט (<20Å) אפילו בײַ צימער טעמפּעראַטור. ווען סיליקאָן ווערט אויסגעשטעלט צו אַן אָקסידירנדיקער סביבה בײַ הויכער טעמפּעראַטור, וועט אַ דיקערע אָקסייד שיכט ווערן געשאַפֿן מיט אַ שנעלערן טעמפּאָ. דער גרונטלעכער מעכאַניזם פֿון סיליקאָן דייאַקסייד פֿאָרמאַציע פֿון סיליקאָן איז גוט פֿאַרשטאַנען. דיל און גראָווע האָבן אַנטוויקלט אַ מאַטעמאַטישן מאָדעל וואָס באַשרײַבט גענוי די וואוקס דינאַמיק פֿון אָקסייד פֿילמען דיקער ווי 300Å. זיי האָבן פֿאָרגעלייגט אַז אָקסידאַציע ווערט דורכגעפֿירט אויף דעם פֿאָלגנדיקן אופֿן, דאָס הייסט, דער אָקסידאַנט (וואַסער מאָלעקולן און זויערשטאָף מאָלעקולן) פֿאַרשפּרייט זיך דורך דער עקזיסטירנדיקער אָקסייד שיכט צום Si/SiO2 אינטערפֿייס, וואו דער אָקסידאַנט רעאַגירט מיט סיליקאָן צו שאַפֿן סיליקאָן דייאַקסייד. די הויפּט רעאַקציע צו שאַפֿן סיליקאָן דייאַקסייד ווערט באַשריבן ווי פֿאָלגנדיק:
די אקסידאציע רעאקציע פאסירט ביים Si/SiO2 אינטערפייס, אזוי ווען די אקסייד שיכט וואקסט, ווערט סיליקאן כסדר פארברוכט און די אינטערפייס אינוואדירט ביסלעכווייז סיליקאן. לויט דער קארעספאנדירנדער געדיכטקייט און מאלעקולארער וואָג פון סיליקאן און סיליקאן דיאקסייד, קען מען געפינען אז די סיליקאן פארברוכט פאר דער גרעב פון דער לעצטער אקסייד שיכט איז 44%. אויף דעם אופן, אויב די אקסייד שיכט וואקסט 10,000Å, וועט 4400Å סיליקאן פארברוכט ווערן. די באציאונג איז וויכטיג פארן אויסרעכענען די הייך פון די טרעפ וואס ווערן געשאפן אויף דער...סיליקאָן וועיפערדי טריט זענען דער רעזולטאַט פון פאַרשידענע אַקסאַדיישאַן ראַטעס אין פאַרשידענע ערטער אויף דער סיליקאָן וועיפער ייבערפלאַך.
מיר צושטעלן אויך הויך-ריינקייט גראַפיט און סיליקאָן קאַרבייד פּראָדוקטן, וואָס ווערן וויידלי געניצט אין וועיפער פּראַסעסינג ווי אַקסאַדיישאַן, דיפיוזשאַן און אַנילינג.
באַגריסן קיין קאַסטאַמערז פון אַלע איבער דער וועלט צו באַזוכן אונדז פֿאַר אַ ווייטערדיקע דיסקוסיע!
https://www.vet-china.com/
פּאָסט צייט: 13טן נאוועמבער 2024