Myndun kísildíoxíðs á yfirborði kísils er kölluð oxun, og sköpun stöðugs og sterklega viðloðandi kísildíoxíðs leiddi til fæðingar kísill-samþættra hringrásarplanartækni. Þó að margar leiðir séu til að rækta kísildíoxíð beint á yfirborði kísils, er það venjulega gert með varmaoxun, sem er að láta kísillinn vera í oxandi umhverfi við hátt hitastig (súrefni, vatn). Varmaoxunaraðferðir geta stjórnað filmuþykkt og eiginleikum kísils/kísildíoxíðs viðmóts við undirbúning kísildíoxíðfilma. Aðrar aðferðir til að rækta kísildíoxíð eru plasma-anóðun og blaut-anóðun, en hvorug þessara aðferða hefur verið mikið notuð í VLSI ferlum.
Kísill sýnir tilhneigingu til að mynda stöðugt kísildíoxíð. Ef nýklofinn kísill er útsettur fyrir oxandi umhverfi (eins og súrefni, vatni) myndar hann mjög þunnt oxíðlag (<20 Å), jafnvel við stofuhita. Þegar kísill er útsettur fyrir oxandi umhverfi við hátt hitastig myndast þykkara oxíðlag hraðar. Grunnferlið við myndun kísildíoxíðs úr kísli er vel skilið. Deal og Grove þróuðu stærðfræðilíkan sem lýsir nákvæmlega vaxtarhreyfifræði oxíðfilma sem eru þykkari en 300 Å. Þeir lögðu til að oxun væri framkvæmd á eftirfarandi hátt, þ.e. að oxunarefnið (vatnsameindir og súrefnisameindir) dreifist í gegnum núverandi oxíðlag að Si/SiO2 tengifletinum, þar sem oxunarefnið hvarfast við kísill til að mynda kísildíoxíð. Helstu viðbrögðin við myndun kísildíoxíðs eru lýst sem hér segir:
Oxunarviðbrögðin eiga sér stað við Si/SiO2 tengiflötinn, þannig að þegar oxíðlagið vex, neytist sílikon stöðugt og tengiflöturinn smátt og smátt ræðst inn í sílikonið. Samkvæmt samsvarandi eðlisþyngd og mólþunga kísils og kísildíoxíðs má sjá að sílikonnotkunin fyrir þykkt lokaoxíðlagsins er 44%. Þannig, ef oxíðlagið vex um 10.000 Å, verða 4400 Å af sílikoni notaðar. Þetta samband er mikilvægt til að reikna út hæð þrepanna sem myndast á laginu.kísillþynnaSkrefin eru afleiðing mismunandi oxunarhraða á mismunandi stöðum á yfirborði kísilþráðarins.
Við bjóðum einnig upp á hágæða grafít og kísilkarbíð vörur, sem eru mikið notaðar í skífuvinnslu eins og oxun, dreifingu og glæðingu.
Velkomin öllum viðskiptavinum frá öllum heimshornum til að heimsækja okkur til frekari umræðu!
https://www.vet-china.com/
Birtingartími: 13. nóvember 2024