Tugtar ocsaídiú ar fhoirmiú dé-ocsaíd sileacain ar dhromchla sileacain, agus ba é cruthú dé-ocsaíd sileacain atá cobhsaí agus greamaitheach go láidir a ba chúis le breith na teicneolaíochta plánach ciorcaid chomhtháite sileacain. Cé go bhfuil go leor bealaí ann chun dé-ocsaíd sileacain a fhás go díreach ar dhromchla sileacain, is gnách go ndéantar é trí ocsaídiú teirmeach, is é sin an sileacan a nochtadh do thimpeallacht ocsaídiúcháin ardteochta (ocsaigin, uisce). Is féidir le modhanna ocsaídiúcháin theirmeacha tiús an scannáin agus tréithe comhéadain sileacain/dé-ocsaíd sileacain a rialú le linn ullmhú scannán dé-ocsaíd sileacain. Is iad teicnící eile chun dé-ocsaíd sileacain a fhás ná anóidiú plasma agus anóidiú fliuch, ach níor úsáideadh ceachtar de na teicnící seo go forleathan i bpróisis VLSI.
Léiríonn sileacan claonadh dé-ocsaíd sileacain chobhsaí a fhoirmiú. Má nochtar sileacan úr-scoilte do thimpeallacht ocsaídiúcháin (amhail ocsaigin, uisce), cruthóidh sé ciseal ocsaíde an-tanaí (<20Å) fiú ag teocht an tseomra. Nuair a nochtar sileacan do thimpeallacht ocsaídiúcháin ag teocht ard, ginfear ciseal ocsaíde níos tibhe ar ráta níos tapúla. Tuigtear go maith an mheicníocht bhunúsach maidir le dé-ocsaíd sileacain a fhoirmiú ó shileacan. D'fhorbair Deal agus Grove samhail mhatamaiticiúil a chuireann síos go cruinn ar dhinimic fáis scannán ocsaíde atá níos tibhe ná 300Å. Mhol siad go ndéantar ocsaídiú ar an mbealach seo a leanas, is é sin, go scaipeann an t-ocsaídeoir (móilíní uisce agus móilíní ocsaigine) tríd an gciseal ocsaíde atá ann cheana féin go dtí an comhéadan Si/SiO2, áit a n-imoibríonn an t-ocsaídeoir le sileacan chun dé-ocsaíd sileacain a fhoirmiú. Déantar cur síos ar an bpríomh-imoibriú chun dé-ocsaíd sileacain a fhoirmiú mar seo a leanas:
Tarlaíonn an t-imoibriú ocsaídiúcháin ag an gcomhéadan Si/SiO2, mar sin nuair a fhásann an ciseal ocsaíde, ídítear sileacan i gcónaí agus déanann an comhéadan ionradh de réir a chéile ar an sileacan. De réir an dlúis agus an mheáchain mhóilíneach chomhfhreagraigh de shileacan agus dé-ocsaíd shileacain, is féidir a fháil amach gurb é 44% an sileacan a ídítear le haghaidh tiús an chiseal ocsaíde deiridh. Ar an mbealach seo, má fhásann an ciseal ocsaíde 10,000 Å, ídeofar 4400 Å de shileacan. Tá an gaol seo tábhachtach chun airde na gcéimeanna a fhoirmítear ar ansceallóg sileacainIs toradh rátaí ocsaídiúcháin éagsúla ag áiteanna éagsúla ar dhromchla an sceallóige sileacain na céimeanna.
Soláthraímid táirgí graifíte agus carbóide sileacain ard-íonachta freisin, a úsáidtear go forleathan i bpróiseáil vaiféir mar ocsaídiú, scaipeadh agus annealing.
Fáilte roimh aon chustaiméirí ó gach cearn den domhan cuairt a thabhairt orainn le haghaidh tuilleadh plé!
https://www.vet-china.com/
Am an phoist: 13 Samhain 2024