ทำความเข้าใจเกี่ยวกับการปนเปื้อนของแผ่นเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์และขั้นตอนการทำความสะอาด

เมื่อน้ำอสุจิไหลออกมาข่าวธุรกิจการทำความเข้าใจความซับซ้อนของการผลิตเซมิคอนดักเตอร์เป็นสิ่งจำเป็น แผ่นเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์เป็นส่วนประกอบที่สำคัญในอุตสาหกรรมนี้ แต่ก็มักเผชิญกับการปนเปื้อนจากสิ่งเจือปนต่างๆ สารปนเปื้อนเหล่านี้ ได้แก่ อะตอม สารอินทรีย์ ไอออนของธาตุโลหะ และออกไซด์ ซึ่งสามารถส่งผลกระทบต่อกระบวนการผลิตได้

อนุภาคเช่น โพลิเมอร์และสิ่งเจือปนจากการกัดกร่อนอาศัยแรงระหว่างโมเลกุลในการดูดซับบนพื้นผิวของเวเฟอร์ ซึ่งส่งผลต่อกระบวนการโฟโตลิโทกราฟีของอุปกรณ์สิ่งเจือปนอินทรีย์เหมือนกับน้ำมันจากผิวหนังของมนุษย์และน้ำมันเครื่องจักรที่ก่อตัวเป็นฟิล์มบนแผ่นเวเฟอร์ ทำให้ทำความสะอาดได้ยากไอออนของธาตุโลหะเช่น เหล็กและอะลูมิเนียม มักถูกกำจัดออกไปโดยการสร้างสารประกอบเชิงซ้อนของไอออนโลหะออกไซด์ขัดขวางกระบวนการผลิต และโดยทั่วไปจะกำจัดออกได้โดยการแช่ในกรดไฮโดรฟลูออริกเจือจาง

วิธีการทางเคมีโดยทั่วไปแล้ว เทคนิคการทำความสะอาดด้วยสารเคมีแบบเปียก เช่น การแช่ในสารละลายและการขัดถูเชิงกล มักใช้ในการทำความสะอาดและขจัดสิ่งสกปรกบนแผ่นเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์ วิธีการทำความสะอาดด้วยคลื่นเสียงความถี่สูงและคลื่นเสียงความถี่สูงเป็นวิธีที่มีประสิทธิภาพในการกำจัดสิ่งสกปรก การทำความสะอาดด้วยสารเคมีแบบแห้ง ซึ่งรวมถึงเทคโนโลยีพลาสมาและก๊าซ ก็มีบทบาทในกระบวนการทำความสะอาดแผ่นเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์เช่นกัน