ทำความเข้าใจเกี่ยวกับการปนเปื้อนของเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์และขั้นตอนการทำความสะอาด

เมื่อมันเป็นน้ำอสุจิข่าวธุรกิจการทำความเข้าใจถึงความซับซ้อนของการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ถือเป็นสิ่งจำเป็น เวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์เป็นส่วนประกอบที่สำคัญในอุตสาหกรรมนี้ แต่บ่อยครั้งที่ต้องเผชิญกับการปนเปื้อนจากสิ่งเจือปนต่างๆ สิ่งเจือปนเหล่านี้ ได้แก่ อะตอม สารอินทรีย์ ไอออนธาตุโลหะ และออกไซด์ ซึ่งอาจส่งผลกระทบต่อขั้นตอนการผลิตได้

อนุภาคเช่น พอลิเมอร์และสิ่งเจือปนที่กัดกร่อนซึ่งอาศัยแรงระหว่างโมเลกุลในการดูดซับบนพื้นผิวของเวเฟอร์ ส่งผลต่อการพิมพ์หินด้วยแสงของอุปกรณ์สิ่งเจือปนอินทรีย์เช่น น้ำมันโฮโมสกินและน้ำมันเครื่องที่เกาะบนเวเฟอร์ ทำให้ทำความสะอาดได้ยากไอออนธาตุโลหะเช่นเหล็กและอลูมิเนียม มักจะถูกกำจัดออกผ่านการก่อตัวของสารประกอบไอออนของธาตุโลหะออกไซด์ขัดขวางขั้นตอนการผลิต และโดยทั่วไปจะสามารถกำจัดออกได้โดยการแช่ในกรดไฮโดรฟลูออริกเจือจาง

วิธีการทางเคมีมักใช้ในการทำความสะอาดและกระตุกเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์ เทคนิคการทำความสะอาดด้วยสารเคมีที่มีความชื้น เช่น การจุ่มสารละลายและการขัดด้วยเครื่องจักรกำลังเป็นที่นิยม วิธีการทำความสะอาดด้วยความเร็วเหนือเสียงและเมกะเสียงเป็นวิธีที่มีประสิทธิภาพในการขจัดสิ่งสกปรก การทำความสะอาดด้วยสารเคมีแห้ง ซึ่งได้แก่ เทคโนโลยีพลาสมาและเฟสแก๊ส ยังมีบทบาทสำคัญในกระบวนการทำความสะอาดเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์ด้วย