VET એનર્જી પ્રીમિયમ-ગુણવત્તાવાળા ઉત્પાદનમાં નિષ્ણાત છેઉચ્ચ-શુદ્ધતા આઇસોસ્ટેટિક ગ્રેફાઇટ ક્રુસિબલસેમિકન્ડક્ટર અને અદ્યતન સામગ્રીના ઉપયોગ માટે રચાયેલ છે. અલ્ટ્રા-ફાઇન ગ્રેઇન આઇસોસ્ટેટિક ગ્રેફાઇટમાંથી ઉત્પાદિત અને ઉચ્ચ-તાપમાન હેલોજન શુદ્ધિકરણ પ્રક્રિયાઓ દ્વારા શુદ્ધ કરાયેલ, અમારા ગ્રેફાઇટ ક્રુસિબલ્સ અસાધારણ થર્મલ સ્થિરતા, ઓછી અશુદ્ધિ સ્તર અને અત્યંત ઓપરેટિંગ પરિસ્થિતિઓમાં ઉત્કૃષ્ટ પરિમાણીય સુસંગતતા પ્રદાન કરે છે.
SiC ક્રિસ્ટલ ગ્રોથ, GaN ક્રિસ્ટલ ઉત્પાદન, એપિટેક્સિયલ મટિરિયલ મેન્યુફેક્ચરિંગ અને એડવાન્સ્ડ સિરામિક સિન્ટરિંગમાં વ્યાપકપણે ઉપયોગમાં લેવાય છે, ઉચ્ચ-શુદ્ધતાઆઇસોસ્ટેટિક ગ્રેફાઇટ ક્રુસિબલઆધુનિક સેમિકન્ડક્ટર ઉત્પાદનમાં સ્ફટિક ગુણવત્તા, પ્રક્રિયા સ્થિરતા અને ઉત્પાદન કાર્યક્ષમતા સુનિશ્ચિત કરવામાં s મહત્વપૂર્ણ ભૂમિકા ભજવે છે.
ઉચ્ચ-શુદ્ધતા આઇસોસ્ટેટિક ગ્રેફાઇટ ક્રુસિબલ શું છે?
ઉચ્ચ-શુદ્ધતા આઇસોસ્ટેટિક ગ્રેફાઇટ ક્રુસિબલ એ એક ચોકસાઇ-એન્જિનિયર્ડ કન્ટેનર છે જે આઇસોસ્ટેટિક પ્રેસિંગ પ્રક્રિયા દ્વારા રચાયેલ આઇસોટ્રોપિક ગ્રેફાઇટ સામગ્રીમાંથી બનાવવામાં આવે છે. પરંપરાગત મોલ્ડેડ ગ્રેફાઇટ ઉત્પાદનોની તુલનામાં, આઇસોસ્ટેટિક ગ્રેફાઇટ ઓફર કરે છે:
● બધી દિશામાં એકસમાન સૂક્ષ્મ રચના
● ઉચ્ચ ઘનતા અને યાંત્રિક શક્તિ
● શ્રેષ્ઠ થર્મલ વાહકતા
● ઉત્તમ થર્મલ શોક પ્રતિકાર
● ઓછી છિદ્રાળુતા
● ખૂબ ઓછી અશુદ્ધતા
શુદ્ધિકરણ પછી, રાખનું પ્રમાણ સામાન્ય રીતે 5 પીપીએમથી નીચે નિયંત્રિત કરી શકાય છે, જ્યારે કેટલાક સેમિકન્ડક્ટર-ગ્રેડ સામગ્રી 3 પીપીએમથી નીચે અશુદ્ધિ સ્તર પ્રાપ્ત કરે છે.
આ લાક્ષણિકતાઓ ઉચ્ચ-શુદ્ધતા આઇસોસ્ટેટિક ગ્રેફાઇટ ક્રુસિબલ્સને 2,000°C થી વધુ ઉચ્ચ-તાપમાન પ્રક્રિયાઓ માટે આદર્શ બનાવે છે, જ્યાં દૂષણ નિયંત્રણ અને થર્મલ એકરૂપતા આવશ્યક છે.
સેમિકન્ડક્ટર ઉત્પાદનમાં ભૂમિકાઓ
ફિઝિકલ વેપર ટ્રાન્સપોર્ટ (PVT) પ્રક્રિયાનો ઉપયોગ કરીને સિલિકોન કાર્બાઇડ (SiC) સ્ફટિક વૃદ્ધિમાં, ગ્રેફાઇટ ક્રુસિબલ્સ સ્રોત સામગ્રી નિયંત્રણ જહાજ અને થર્મલ ફિલ્ડ સિસ્ટમના અભિન્ન ભાગ તરીકે કાર્ય કરે છે. સામાન્ય રીતે 2,200°C થી વધુ તાપમાને કાર્યરત, ક્રુસિબલને બાષ્પ પરિવહન અને સ્ફટિક રચના માટે જરૂરી ચોક્કસ તાપમાન ગ્રેડિયન્ટ્સને ટેકો આપતી વખતે પરિમાણીય સ્થિરતા જાળવી રાખવી જોઈએ. ગ્રેફાઇટની શુદ્ધતા અને સમદેશિક રચના અશુદ્ધિના સમાવેશ, થર્મલ વિતરણ, સ્ફટિક વૃદ્ધિ દર અને ખામી ઉત્પન્નને સીધી અસર કરે છે.
ઉચ્ચ-શુદ્ધતા આઇસોસ્ટેટિક ગ્રેફાઇટ ક્રુસિબલ્સનું કાર્ય SiC ઉત્પાદનથી આગળ વધીને અદ્યતન ગેલિયમ નાઇટ્રાઇડ (GaN) ક્રિસ્ટલ ગ્રોથ ટેકનોલોજીમાં વિસ્તરે છે. HVPE, ફ્લક્સ ગ્રોથ, અથવા ઉભરતી બલ્ક ક્રિસ્ટલ ઉત્પાદન પદ્ધતિઓમાં ઉપયોગમાં લેવાતા, ગ્રેફાઇટ ક્રુસિબલ્સ સ્થિર ઉચ્ચ-તાપમાન વાતાવરણ પૂરું પાડે છે જે દૂષણના જોખમોને ઘટાડીને સામગ્રી પરિવહન અને સ્ફટિક રચનાને ટેકો આપે છે.
સેમિકન્ડક્ટર એપિટેક્સિયલ મટિરિયલ ઉત્પાદનમાં, જેમાં SiC એપિટાક્સી, AlN ક્રિસ્ટલ ગ્રોથ અને એડવાન્સ્ડ કમ્પાઉન્ડ સેમિકન્ડક્ટર પ્રોસેસિંગનો સમાવેશ થાય છે, ગ્રેફાઇટ ક્રુસિબલ્સ થર્મલ એકરૂપતા અને પ્રક્રિયા પુનરાવર્તિતતામાં ફાળો આપે છે. તેમની ઉત્તમ થર્મલ વાહકતા અને થર્મલ આંચકા સામે પ્રતિકાર આત્યંતિક પ્રક્રિયા પરિસ્થિતિઓમાં સ્થિર કામગીરીને સક્ષમ કરે છે, બાષ્પીભવન, ઉત્કર્ષ અને ડિપોઝિશન મિકેનિઝમ્સના ચોક્કસ નિયંત્રણને ટેકો આપે છે.
ઉચ્ચ-શુદ્ધતા આઇસોસ્ટેટિક ગ્રેફાઇટ ક્રુસિબલ્સ અદ્યતન સિરામિક સામગ્રી અને ત્રીજી પેઢીના સેમિકન્ડક્ટર પાવડરના ઉત્પાદનમાં પણ મહત્વપૂર્ણ ભૂમિકા ભજવે છે. સિલિકોન કાર્બાઇડ, એલ્યુમિનિયમ નાઇટ્રાઇડ, બોરોન નાઇટ્રાઇડ અને અન્ય ઉચ્ચ-પ્રદર્શન સિરામિક્સના સિન્ટરિંગ દરમિયાન, ક્રુસિબલ રાસાયણિક રીતે સ્થિર અને થર્મલી એકસમાન વાતાવરણ પૂરું પાડે છે જે દૂષણને ઓછું કરતી વખતે ઘનતાને પ્રોત્સાહન આપે છે. સેમિકન્ડક્ટર સાધનોના ઘટકોથી લઈને ઉચ્ચ-શક્તિવાળા ઇલેક્ટ્રોનિક પેકેજિંગ સુધીના એપ્લિકેશનો માટે સામગ્રીની શુદ્ધતા, થર્મલ વાહકતા અને યાંત્રિક કામગીરીમાં પરિણામી સુધારાઓ મહત્વપૂર્ણ છે.
ઉદ્યોગ વલણો અને ભવિષ્યનો વિકાસ
જેમ જેમ વાઈડ-બેન્ડગેપ સેમિકન્ડક્ટર્સ પાવર ઇલેક્ટ્રોનિક્સ ઉદ્યોગમાં પરિવર્તન લાવી રહ્યા છે, તેમ તેમ અદ્યતન ગ્રેફાઇટ ક્રુસિબલ્સની માંગ ઝડપથી વધી રહી છે.
અતિ-ઉચ્ચ શુદ્ધતા આવશ્યકતાઓ
ભવિષ્યના સેમિકન્ડક્ટર એપ્લિકેશન્સ માટે અશુદ્ધિ સ્તર 5 પીપીએમથી નીચે હોવું જરૂરી છે અને કેટલાક કિસ્સાઓમાં, મોટા સ્ફટિક કદ અને ઓછી ખામી ઘનતાને ટેકો આપવા માટે 1 પીપીએમ સુધી પહોંચવું જરૂરી છે.
કોટિંગ ટેકનોલોજીઓ
ગ્રેફાઇટ ક્રુસિબલ્સ પર અદ્યતન સપાટીના આવરણનો ઉપયોગ વધુને વધુ થઈ રહ્યો છે, જેમાં નીચેનાનો સમાવેશ થાય છે:
● સિલિકોન કાર્બાઇડ (SiC) કોટિંગ
● ટેન્ટેલમ કાર્બાઇડ (TaC) કોટિંગ
● પાયરોલિટીક કાર્બન (PyC) કોટિંગ
આ કોટિંગ્સ વધારે છે:
● કાટ પ્રતિકાર
● થર્મલ સ્થિરતા
● આજીવન પ્રદર્શન
● પ્રક્રિયા સ્વચ્છતા
● મોટા ક્રુસિબલ ડિઝાઇન
નું વ્યાપારીકરણ:
● ૮-ઇંચના SiC વેફર્સ
● મોટા GaN સબસ્ટ્રેટ્સ
● અદ્યતન પાવર સેમિકન્ડક્ટર સામગ્રી
વિસ્તૃત ઉત્પાદન ચક્ર પર ચોક્કસ થર્મલ નિયંત્રણ જાળવવા માટે સક્ષમ મોટા, વધુ પરિમાણીય સ્થિર ગ્રેફાઇટ ક્રુસિબલ્સના વિકાસને વેગ આપી રહ્યા છે.
