સિલિકોન એપિટાક્સી (Si Epi) માટે CVD SiC કોટેડ ઘટકો
સિંગલ-વેફર અને બેચ સિલિકોન એપિટેક્સિયલ ડિપોઝિશન સિસ્ટમ્સ માટે પ્રિસિઝન-એન્જિનિયર્ડ, અમારા CVD SiC કોટેડ સસેપ્ટર્સ, સેટેલાઇટ ડિસ્ક અને થર્મલ ફિલ્ડ ઘટકો ઉત્કૃષ્ટ થર્મલ એકરૂપતા અને શૂન્ય આઉટગેસિંગ પ્રદાન કરે છે. ઉચ્ચ-ઘનતા ક્યુબિક β-SiC કોટિંગ સ્તર ઉચ્ચ-શુદ્ધતા ગ્રેફાઇટ સબસ્ટ્રેટને સંપૂર્ણપણે સમાવી લે છે, પ્રતિક્રિયાશીલ ગેસ એચિંગ (SiH₄, SiH₂Cl₂, HCl) ને અટકાવે છે અને ઉચ્ચ-તાપમાન Si Epi પ્રોસેસિંગ (1000°C - 1200°C) દરમિયાન અતિ-નીચા ધાતુની અશુદ્ધિ સ્તર (< 5 ppm) ની ખાતરી આપે છે.
થર્મલ ફિલ્ડ એકરૂપતા
નિયંત્રિત ઉત્સર્જનતા ચોક્કસ વેફર ધાર-થી-કેન્દ્ર ફિલ્મ જાડાઈ સુસંગતતા સુનિશ્ચિત કરે છે.
HCl એચ પ્રતિકાર
ઇન-સીટુ ચેમ્બર સફાઈ રસાયણો અને થર્મલ આંચકા સામે મજબૂત રક્ષણ પૂરું પાડે છે.
OEM સિસ્ટમ સુસંગતતા
મુખ્ય પ્રવાહના 200mm/300mm સિંગલ-વેફર Epi ટૂલ્સ (એપ્લાઇડ મટિરિયલ્સ, ASM) માં ફિટ થવા માટે પ્રિસિઝન CNC મશીન.
| ટેકનિકલ પરિમાણ | સ્પષ્ટીકરણ મૂલ્ય | માનક / પરીક્ષણ પદ્ધતિ |
|---|---|---|
| કોટિંગ સામગ્રી | સીવીડી β-SiC (ક્યુબિક ફેઝ) | ઉચ્ચ-ઘનતા સ્ફટિકીય માળખું |
| સબસ્ટ્રેટ સામગ્રી | અલ્ટ્રા-પ્યોર આઇસોસ્ટેટિક ગ્રેફાઇટ | ઘનતા: ૧.૮૨ - ૧.૮૮ ગ્રામ/સેમી³ |
| રાસાયણિક શુદ્ધતા | કુલ અશુદ્ધિઓ < 5 પીપીએમ | GDMS પરીક્ષણ કરેલ |
| કોટિંગ જાડાઈ | ૮૦ માઇક્રોન - ૧૫૦ માઇક્રોન | એકરૂપતા ≤ ±5% |






