A VET Energy 8 hüvelykes szilíciumlapkáit széles körben használják teljesítményelektronikában, érzékelőkben, integrált áramkörökben és más területeken. A félvezetőipar vezetőjeként elkötelezettek vagyunk amellett, hogy kiváló minőségű Si Wafer termékeket biztosítsunk ügyfeleink növekvő igényeinek kielégítésére.
A Si Wafer mellett a VET Energy félvezető szubsztrát anyagok széles választékát is kínálja, beleértve a SiC szubsztrátot, az SOI wafert, a SiN szubsztrátot, az Epi wafert stb. Termékkínálatunk új, széles tiltott sávú félvezető anyagokat is lefed, mint például a gallium-oxid Ga2O3 és az AlN wafer, ami erős támogatást nyújt a következő generációs teljesítményelektronikai eszközök fejlesztéséhez.
A VET Energy korszerű gyártóberendezésekkel és teljes körű minőségirányítási rendszerrel rendelkezik annak biztosítására, hogy minden egyes ostya megfeleljen a szigorú iparági szabványoknak. Termékeink nemcsak kiváló elektromos tulajdonságokkal rendelkeznek, hanem jó mechanikai szilárdsággal és hőstabilitással is.
A VET Energy testreszabott ostyamegoldásokat kínál ügyfeleinek, beleértve a különböző méretű, típusú és adalékkoncentrációjú ostyákat. Emellett professzionális műszaki támogatást és értékesítés utáni szolgáltatást is nyújtunk, hogy segítsük ügyfeleinket a gyártási folyamat során felmerülő különféle problémák megoldásában.
OSTYA SPECIFIKÁCIÓK
*n-Pm=n-típusú Pm-minőség, n-Ps=n-típusú Ps-minőség, Sl=Félszigetelő
| Tétel | 8 hüvelykes | 6 hüvelykes | 4 hüvelykes | ||
| nP | n-Pm | n-Ps | SI | SI | |
| TTV (GBIR) | ≤6 μm | ≤6 μm | |||
| Íj (GF3YFCD) - Abszolút érték | ≤15 μm | ≤15 μm | ≤25 μm | ≤15 μm | |
| Warp (GF3YFER) | ≤25 μm | ≤25 μm | ≤40 μm | ≤25 μm | |
| LTV (SBIR) - 10 mm x 10 mm | <2 μm | ||||
| Ostyaél | Ferde élezés | ||||
FELÜLETKEZELÉS
*n-Pm=n-típusú Pm-minőség, n-Ps=n-típusú Ps-minőség, Sl=Félszigetelő
| Tétel | 8 hüvelykes | 6 hüvelykes | 4 hüvelykes | ||
| nP | n-Pm | n-Ps | SI | SI | |
| Felületkezelés | Kétoldalas optikai polírozó, Si-arcú CMP | ||||
| Felületi érdesség | (10µm x 10µm) Si-FaceRa≤0.2nm | (5 µm x 5 µm) Si-felület Ra≤0,2 nm | |||
| Élforgácsok | Nem megengedett (hosszúság és szélesség ≥0,5 mm) | ||||
| Behúzások | Nincs engedélyezett | ||||
| Karcolások (Si-Face) | Mennyiség ≤5, Összesített | Mennyiség ≤5, Összesített | Mennyiség ≤5, Összesített | ||
| Repedések | Nincs engedélyezett | ||||
| Élkizárás | 3 mm | ||||
-
Kínai gyári grafitlemez lapok árai
-
Hidrogén üzemanyagcellás 2000 W-os Pemfc Stack 25 V-os drón...
-
Grafit szénblokk ára megmunkáláshoz/elektromos...
-
1000 W-os hidrogén üzemanyagcellás 24 V-os Pemfc köteges hidrogén...
-
Hidrogén üzemanyagcellás köteg teljesítményű nagy precíziós...
-
Szilícium-karbid SSIC RBSIC SiC cső Szilícium cső