Nagy tisztaságú 8 hüvelykes szilícium ostya

Rövid leírás:

A VET Energy nagy tisztaságú, 8 hüvelykes szilícium-szeletei ideális választást jelentenek félvezetőgyártáshoz. A fejlett technológiával készült szeletek kiváló kristályminőséggel és felületi síkkal rendelkeznek, így alkalmasak különféle mikroelektronikai eszközök gyártására.


Termék részletei

Termékcímkék

A VET Energy 8 hüvelykes szilíciumlapkáit széles körben használják teljesítményelektronikában, érzékelőkben, integrált áramkörökben és más területeken. A félvezetőipar vezetőjeként elkötelezettek vagyunk amellett, hogy kiváló minőségű Si Wafer termékeket biztosítsunk ügyfeleink növekvő igényeinek kielégítésére.

A Si Wafer mellett a VET Energy félvezető szubsztrát anyagok széles választékát is kínálja, beleértve a SiC szubsztrátot, az SOI wafert, a SiN szubsztrátot, az Epi wafert stb. Termékkínálatunk új, széles tiltott sávú félvezető anyagokat is lefed, mint például a gallium-oxid Ga2O3 és az AlN wafer, ami erős támogatást nyújt a következő generációs teljesítményelektronikai eszközök fejlesztéséhez.

A VET Energy korszerű gyártóberendezésekkel és teljes körű minőségirányítási rendszerrel rendelkezik annak biztosítására, hogy minden egyes ostya megfeleljen a szigorú iparági szabványoknak. Termékeink nemcsak kiváló elektromos tulajdonságokkal rendelkeznek, hanem jó mechanikai szilárdsággal és hőstabilitással is.

A VET Energy testreszabott ostyamegoldásokat kínál ügyfeleinek, beleértve a különböző méretű, típusú és adalékkoncentrációjú ostyákat. Emellett professzionális műszaki támogatást és értékesítés utáni szolgáltatást is nyújtunk, hogy segítsük ügyfeleinket a gyártási folyamat során felmerülő különféle problémák megoldásában.

第6页-36
第6页-35

OSTYA SPECIFIKÁCIÓK

*n-Pm=n-típusú Pm-minőség, n-Ps=n-típusú Ps-minőség, Sl=Félszigetelő

Tétel

8 hüvelykes

6 hüvelykes

4 hüvelykes

nP

n-Pm

n-Ps

SI

SI

TTV (GBIR)

≤6 μm

≤6 μm

Íj (GF3YFCD) - Abszolút érték

≤15 μm

≤15 μm

≤25 μm

≤15 μm

Warp (GF3YFER)

≤25 μm

≤25 μm

≤40 μm

≤25 μm

LTV (SBIR) - 10 mm x 10 mm

<2 μm

Ostyaél

Ferde élezés

FELÜLETKEZELÉS

*n-Pm=n-típusú Pm-minőség, n-Ps=n-típusú Ps-minőség, Sl=Félszigetelő

Tétel

8 hüvelykes

6 hüvelykes

4 hüvelykes

nP

n-Pm

n-Ps

SI

SI

Felületkezelés

Kétoldalas optikai polírozó, Si-arcú CMP

Felületi érdesség

(10µm x 10µm) Si-FaceRa≤0.2nm
C-felület Ra≤ 0,5 nm

(5 µm x 5 µm) Si-felület Ra≤0,2 nm
C-felület Ra≤0,5 nm

Élforgácsok

Nem megengedett (hosszúság és szélesség ≥0,5 mm)

Behúzások

Nincs engedélyezett

Karcolások (Si-Face)

Mennyiség ≤5, Összesített
Hossz ≤0,5 × ostya átmérő

Mennyiség ≤5, Összesített
Hossz ≤0,5 × ostya átmérő

Mennyiség ≤5, Összesített
Hossz ≤0,5 × ostya átmérő

Repedések

Nincs engedélyezett

Élkizárás

3 mm

tech_1_2_méret
下载 (2)

  • Előző:
  • Következő:

  • Online csevegés WhatsApp-on!